光学学报, 2018, 38 (12): 1202001, 网络出版: 2019-05-10
原子光刻中原子通量的优化研究 下载: 754次
Optimization of Atom Flux in Atom Lithography
基本信息
DOI: | 10.3788/AOS201838.1202001 |
中图分类号: | O562 |
栏目: | 原子与分子物理学 |
项目基金: | 国家重点研发计划、国家重大科学仪器设备开发专项(2014YQ090709)、 |
收稿日期: | 2018-06-14 |
修改稿日期: | 2018-07-23 |
网络出版日期: | 2019-05-10 |
通讯作者: | |
备注: | -- |
陈杰, 刘杰, 朱立, 邓晓, 程鑫彬, 李同保. 原子光刻中原子通量的优化研究[J]. 光学学报, 2018, 38(12): 1202001. Jie Chen, Jie Liu, Li Zhu, Xiao Deng, Xinbin Cheng, Tongbao Li. Optimization of Atom Flux in Atom Lithography[J]. Acta Optica Sinica, 2018, 38(12): 1202001.