原子光刻中原子通量的优化研究

陈杰; 刘杰; 朱立; 邓晓; 程鑫彬; 李同保

doi:doi:10.3788/AOS201838.1202001

光学学报, 2018, 38 (12): 1202001, 网络出版: 2019-05-10

原子光刻中原子通量的优化研究下载： 754次

Optimization of Atom Flux in Atom Lithography

陈杰 ^**刘杰朱立邓晓 ^*程鑫彬李同保

作者单位

同济大学物理科学与工程学院, 上海 200092

补充材料

陈杰, 刘杰, 朱立, 邓晓, 程鑫彬, 李同保. 原子光刻中原子通量的优化研究[J]. 光学学报, 2018, 38(12): 1202001. Jie Chen, Jie Liu, Li Zhu, Xiao Deng, Xinbin Cheng, Tongbao Li. Optimization of Atom Flux in Atom Lithography[J]. Acta Optica Sinica, 2018, 38(12): 1202001.