光学 精密工程, 2014, 22 (10): 2645, 网络出版: 2014-11-06
热处理对离子束溅射Ta2O5薄膜特性的影响
Effects of annealing on properties of Ta2O5 thin films deposited by ion beam sputtering
基本信息
DOI: | 10.3788/ope.20142210.2645 |
中图分类号: | O484.1 |
栏目: | 现代应用光学 |
项目基金: | 国家自然科学基金重点项目(No.61405145, No.61235011)、中国博士后科学基金资助项目(No.2014M560104)、天津市自然科学基金资助项目(No.13JCYBJC17300) |
收稿日期: | 2013-11-18 |
修改稿日期: | 2014-01-08 |
网络出版日期: | 2014-11-06 |
通讯作者: | 刘华松 (liuhuasong@hotmail.com) |
备注: | -- |
刘华松, 姜承慧, 王利栓, 刘丹丹, 季一勤, 陈德应. 热处理对离子束溅射Ta2O5薄膜特性的影响[J]. 光学 精密工程, 2014, 22(10): 2645. LIU Hua-song, JIANG Cheng-hui, WANG Li-shuan, LIU Dan-dan, JI Yi-qin, CHEN De-ying. Effects of annealing on properties of Ta2O5 thin films deposited by ion beam sputtering[J]. Optics and Precision Engineering, 2014, 22(10): 2645.