热处理对离子束溅射Ta<sub>2</sub>O<sub>5</sub>薄膜特性的影响

刘华松; 姜承慧; 王利栓; 刘丹丹; 季一勤; 陈德应

doi:doi:10.3788/ope.20142210.2645

光学精密工程, 2014, 22 (10): 2645, 网络出版: 2014-11-06

热处理对离子束溅射Ta₂O₅薄膜特性的影响

Effects of annealing on properties of Ta₂O₅ thin films deposited by ion beam sputtering

刘华松 ^1,2,*姜承慧 ¹王利栓 ^1,2刘丹丹 ¹季一勤 ^1,2陈德应 ²

作者单位

¹ 中国航天科工飞航技术研究院天津津航技术物理研究所,天津 300192

² 哈尔滨工业大学光电子技术研究所可调谐激光技术国家级重点实验室,黑龙江哈尔滨 150080

图 & 表

刘华松, 姜承慧, 王利栓, 刘丹丹, 季一勤, 陈德应. 热处理对离子束溅射Ta₂O₅薄膜特性的影响[J]. 光学精密工程, 2014, 22(10): 2645. LIU Hua-song, JIANG Cheng-hui, WANG Li-shuan, LIU Dan-dan, JI Yi-qin, CHEN De-ying. Effects of annealing on properties of Ta₂O₅ thin films deposited by ion beam sputtering[J]. Optics and Precision Engineering, 2014, 22(10): 2645.