激光与光电子学进展, 2017, 54 (1): 013102, 网络出版: 2017-01-17
热退火处理对氧化铟锡薄膜光电特性的影响 下载: 1506次
Influence of Thermal Annealing on Photoelectrical Properties of Indium-Tin Oxide Thin Films
薄膜 氧化铟锡薄膜 快速热退火 微结构 光电特性 thin films indium-tin oxide film rapid thermal annealing micro structure photoelectrical properties
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