量子电子学报, 2005, 22 (2): 251, 网络出版: 2006-05-15
不同退火温度下金属/4H-SiC Schottky势垒高度的研究
Study on Schottky barrier of 4H-SiC at different anealing temperature
图 & 表
杨克勤, 陈厦平, 杨伟锋, 孔令民, 蔡加法, 林雪娇, 吴正云. 不同退火温度下金属/4H-SiC Schottky势垒高度的研究[J]. 量子电子学报, 2005, 22(2): 251. 杨克勤, 陈厦平, 杨伟锋, 孔令民, 蔡加法, 林雪娇, 吴正云. Study on Schottky barrier of 4H-SiC at different anealing temperature[J]. Chinese Journal of Quantum Electronics, 2005, 22(2): 251.