量子电子学报, 2014, 31 (1): 1, 网络出版: 2014-02-26
应用于极紫外光刻系统多层膜的研究进展
Recent advances in multilayer coatings for extreme ultraviolet lithography
基本信息
DOI: | 10.3969/j.issn.1007-5461. 2014.01.001 |
中图分类号: | O484 |
栏目: | 综述 |
项目基金: | 国家自然科学基金(51172237, 61205138)资助项目 |
收稿日期: | 2013-05-29 |
修改稿日期: | 2013-06-18 |
网络出版日期: | 2014-02-26 |
通讯作者: | 秦娟娟 (tiancaijuanjuan@126.com) |
备注: | -- |
秦娟娟, 董伟伟, 周曙, 游利兵, 方晓东. 应用于极紫外光刻系统多层膜的研究进展[J]. 量子电子学报, 2014, 31(1): 1. QIN Juan-juan, DONG Wei-wei, ZHOU Shu, YOU Li-bing, FANG Xiao-dong. Recent advances in multilayer coatings for extreme ultraviolet lithography[J]. Chinese Journal of Quantum Electronics, 2014, 31(1): 1.