应用于极紫外光刻系统多层膜的研究进展

秦娟娟; 董伟伟; 周曙; 游利兵; 方晓东

doi:doi:10.3969/j.issn.1007-5461. 2014.01.001

量子电子学报, 2014, 31 (1): 1, 网络出版: 2014-02-26

应用于极紫外光刻系统多层膜的研究进展

Recent advances in multilayer coatings for extreme ultraviolet lithography

秦娟娟 ^*董伟伟周曙游利兵方晓东

作者单位

中国科学院安徽光学精密机械研究所, 安徽省光子器件与材料重点实验室, 安徽合肥 230031

图 & 表

秦娟娟, 董伟伟, 周曙, 游利兵, 方晓东. 应用于极紫外光刻系统多层膜的研究进展[J]. 量子电子学报, 2014, 31(1): 1. QIN Juan-juan, DONG Wei-wei, ZHOU Shu, YOU Li-bing, FANG Xiao-dong. Recent advances in multilayer coatings for extreme ultraviolet lithography[J]. Chinese Journal of Quantum Electronics, 2014, 31(1): 1.