液晶与显示, 2009, 24 (1): 52, 网络出版: 2010-01-22
掺杂及工艺条件对室温制备ZnO:Al性能的影响
Influence of Doping Content and Sputtering Parameter on Resistivity and Transmittancce of ZnO:Al Thin Films Prepared by DC Magnetron Sputtering at Room Temperature
氧化锌铝 透明导电薄膜 光电性能 磁控溅射 ZAO transparent conducting thin films electrical and optical properties magnetron sputtering
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