光子学报, 2006, 35 (10): 1608, 网络出版: 2010-06-03
压印光刻中的两步对正技术
A Novel Two-Step Alignment Technique for Imprint Lithography
压印光刻 对正准确度 光栅 莫尔信号 粗对正 精对正 Imprint lithography Alignment accuracy Grating Moiré signal Coarse alignment Fine alignment
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