激光与光电子学进展, 2017, 54 (11): 113102, 网络出版: 2017-11-17
PECVD技术在微结构表面沉积薄膜的复形性 下载: 574次
Reproducibility of Thin Films Deposited on Microstructure Surface by PECVD Technology
基本信息
DOI: | 10.3788/lop54.113102 |
中图分类号: | O484 |
栏目: | 薄膜 |
项目基金: | 陕西省自然科学基础研究计划(2014JM8333) |
收稿日期: | 2017-06-03 |
修改稿日期: | 2017-06-16 |
网络出版日期: | 2017-11-17 |
通讯作者: | |
备注: | -- |
潘永强, 陈佳. PECVD技术在微结构表面沉积薄膜的复形性[J]. 激光与光电子学进展, 2017, 54(11): 113102. Pan Yongqiang, Chen Jia. Reproducibility of Thin Films Deposited on Microstructure Surface by PECVD Technology[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2017, 54(11): 113102.