PECVD技术在微结构表面沉积薄膜的复形性

潘永强; 陈佳

doi:doi:10.3788/lop54.113102

激光与光电子学进展, 2017, 54 (11): 113102, 网络出版: 2017-11-17

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Reproducibility of Thin Films Deposited on Microstructure Surface by PECVD Technology

潘永强陈佳

作者单位

西安工业大学光电工程学院, 陕西西安 710021

补充材料

潘永强, 陈佳. PECVD技术在微结构表面沉积薄膜的复形性[J]. 激光与光电子学进展, 2017, 54(11): 113102. Pan Yongqiang, Chen Jia. Reproducibility of Thin Films Deposited on Microstructure Surface by PECVD Technology[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2017, 54(11): 113102.