红外技术, 2012, 34 (5): 265, 网络出版: 2012-05-22
提高红外器件磁控溅射沉积镀膜厚度均匀性的一种方法
A Method of Improving the Thickness Uniformity of Thin Film Deposited by Magnetron Sputtering
基本信息
DOI: | -- |
中图分类号: | O484.1 |
栏目: | 材料与器件 |
项目基金: | -- |
收稿日期: | 2012-03-06 |
修改稿日期: | -- |
网络出版日期: | 2012-05-22 |
通讯作者: | |
备注: | -- |
孙祥乐, 孙茜, 孙金妮, 王忆锋, 余连杰, 刘黎明. 提高红外器件磁控溅射沉积镀膜厚度均匀性的一种方法[J]. 红外技术, 2012, 34(5): 265. SUN Xiang-le, SUN Qian, SUN Jin-ni, WANG Yi-feng, YU Lian-jie, LIU Li-ming. A Method of Improving the Thickness Uniformity of Thin Film Deposited by Magnetron Sputtering[J]. Infrared Technology, 2012, 34(5): 265.