提高红外器件磁控溅射沉积镀膜厚度均匀性的一种方法

孙祥乐; 孙茜; 孙金妮; 王忆锋; 余连杰; 刘黎明

红外技术, 2012, 34 (5): 265, 网络出版: 2012-05-22

提高红外器件磁控溅射沉积镀膜厚度均匀性的一种方法

A Method of Improving the Thickness Uniformity of Thin Film Deposited by Magnetron Sputtering

孙祥乐 ^1,*孙茜 ²孙金妮 ²王忆锋 ¹余连杰 ¹刘黎明 ¹

作者单位

¹ 昆明物理研究所，云南昆明 650223

² 云南师范大学，云南昆明 650092

补充材料

孙祥乐, 孙茜, 孙金妮, 王忆锋, 余连杰, 刘黎明. 提高红外器件磁控溅射沉积镀膜厚度均匀性的一种方法[J]. 红外技术, 2012, 34(5): 265. SUN Xiang-le, SUN Qian, SUN Jin-ni, WANG Yi-feng, YU Lian-jie, LIU Li-ming. A Method of Improving the Thickness Uniformity of Thin Film Deposited by Magnetron Sputtering[J]. Infrared Technology, 2012, 34(5): 265.