提高红外器件磁控溅射沉积镀膜厚度均匀性的一种方法
孙祥乐, 孙茜, 孙金妮, 王忆锋, 余连杰, 刘黎明. 提高红外器件磁控溅射沉积镀膜厚度均匀性的一种方法[J]. 红外技术, 2012, 34(5): 265.
SUN Xiang-le, SUN Qian, SUN Jin-ni, WANG Yi-feng, YU Lian-jie, LIU Li-ming. A Method of Improving the Thickness Uniformity of Thin Film Deposited by Magnetron Sputtering[J]. Infrared Technology, 2012, 34(5): 265.
[1] 曾戈虹. HgCdTe红外探测器性能分析 [J]. 红外技术, 2012, 34(1):1-3.
[2] 庄继胜 , 王忆锋 , 范乃华 , 等. 红外焦平面探测器测试数据的校正 [J].红外与激光工程, 2011, 40(2): 195-198.
[3] Wasa, Hayakawa. Handbook of Sputter Deposition Technology[M]. New Jersey: Noyes Publications, 1991: 49-61.
[4] 杨丽丽, 王光华 , 孔金丞 , 等. 不同靶间距下非晶体碲镉汞薄膜生长及厚度均匀性研究[J]. 红外技术, 2011, 33(1): 13-16.
[5] 王忆锋 , 余连杰 , 马钰. 日盲单光子紫外探测器的发展 [J].红外技术, 2011, 33(12): 715-720.
[6] S.Parkin. Will Spintronics Replace Conventional Electronics. New York: Research & Development, Vol.41 No.8.
[7] 田民波, 刘德令. 薄膜科学与技术手册 [M]. 北京: 机械工业出版社 , 1991: 430-439.
[8] WANG Chih-ta, YEN Shi-chern. Theoretical analysis of film uniformity in spinning processes[J]. Chemical Engineering Science, 1995, 50(6): 989-999.
孙祥乐, 孙茜, 孙金妮, 王忆锋, 余连杰, 刘黎明. 提高红外器件磁控溅射沉积镀膜厚度均匀性的一种方法[J]. 红外技术, 2012, 34(5): 265. SUN Xiang-le, SUN Qian, SUN Jin-ni, WANG Yi-feng, YU Lian-jie, LIU Li-ming. A Method of Improving the Thickness Uniformity of Thin Film Deposited by Magnetron Sputtering[J]. Infrared Technology, 2012, 34(5): 265.
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