红外与毫米波学报, 2018, 37 (1): 15, 网络出版: 2018-03-14  

fT为350 GHz的InAlN/GaN HFET高频器件研究

High-frequency InAlN/GaN HFET with an fT of 350 GHz
作者单位
1 信息显示与可视化国际合作联合实验室,电子科学与工程学院,东南大学,江苏 南京 210096
2 河北半导体研究所,河北 石家庄 050051
3 专用集成电路国家级重点实验室,河北 石家庄 050051
补充材料

付兴昌, 吕元杰, 张力江, 张彤, 李献杰, 宋旭波, 张志荣, 房玉龙, 冯志红. fT为350 GHz的InAlN/GaN HFET高频器件研究[J]. 红外与毫米波学报, 2018, 37(1): 15. FU Xing-Chang, LV Yuan-Jie, ZHANG Li-Jiang, ZHANG Tong, LI Xian-Jie, SONG Xu-Bo, ZHANG Zhi-Rong, FANG Yu-Long, FENG Zhi-Hong. High-frequency InAlN/GaN HFET with an fT of 350 GHz[J]. Journal of Infrared and Millimeter Waves, 2018, 37(1): 15.

关于本站 Cookie 的使用提示

中国光学期刊网使用基于 cookie 的技术来更好地为您提供各项服务,点击此处了解我们的隐私策略。 如您需继续使用本网站,请您授权我们使用本地 cookie 来保存部分信息。
全站搜索
您最值得信赖的光电行业旗舰网络服务平台!