光电工程, 2004, 31 (2): 1, 网络出版: 2007-11-14
硅基光子晶体板的光刻和反应离子刻蚀
Lithography and Reactive Ion Etching of Silicon-Based Photon Crystal Slab
基本信息
DOI: | -- |
中图分类号: | TN305.7 |
栏目: | 微光学 |
项目基金: | 中国科学院光电技术研究领域前沿部署课题 |
收稿日期: | 2003-11-20 |
修改稿日期: | 2004-01-04 |
网络出版日期: | 2007-11-14 |
通讯作者: | |
备注: | -- |
张磊, 张晓玉, 张福甲, 姚汉民, 杜春雷, 刘强, 潘莉. 硅基光子晶体板的光刻和反应离子刻蚀[J]. 光电工程, 2004, 31(2): 1. 张磊, 张晓玉, 张福甲, 姚汉民, 杜春雷, 刘强, 潘莉. Lithography and Reactive Ion Etching of Silicon-Based Photon Crystal Slab[J]. Opto-Electronic Engineering, 2004, 31(2): 1.