作者单位
摘要
1 郑州大学物理工程学院,材料物理教育部重点实验室,郑州 450052
2 浙江知远工程管理有限公司,杭州 311100
采用化学水浴沉积法在不同氨水用量下制备了Cu(In,Ga)Se2太阳能电池的缓冲层CdS薄膜,根据化学平衡动力学计算出混合溶液中反应粒子的初始浓度、pH值和离子积,利用台阶仪、扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、量子效率测试仪(EQE)和IV测试仪对制备样品的薄膜厚度、表面形貌、晶体结构、量子效率和光电转换效率进行了表征和分析。结果表明:提高氨水用量可以抑制同质反应,促进异质反应,使CdS薄膜晶体结构从立方相向六方相转变,晶粒形状从柳絮状向颗粒状转变,晶粒尺寸逐渐增大,粒径分布更加均匀,薄膜表面更加平整,制备电池的EQE、Voc、Jsc、FF、Rs等电学参数得到优化,光电转换效率从7.64%提高到13.60%。
硫化镉薄膜 化学水浴沉积 平衡动力学 结晶类型 铜铟镓硒 CdS thin film chemical bath deposition equilibrium kinetic crystallization type CIGS 
人工晶体学报
2021, 50(2): 310
作者单位
摘要
1 贵州大学物理学院, 贵州 贵阳 550025
2 华中科技大学光学与电子信息学院, 湖北 武汉 430074
在考虑大气湍流效应、气象条件和孔径平均效应的条件下,对星地下行链路中基于等比合并算法的多孔径相干光接收机的性能进行研究,推导了其误码率(BER)分析模型,并基于该模型分析了各种湍流强度、气象条件和孔径大小对接收机灵敏度的影响。研究结果对于实际应用具有很好的指导意义。
大气光学 大气湍流 气象条件 孔径平均 等比合并 误码率 
激光与光电子学进展
2019, 56(21): 210101
作者单位
摘要
贵州大学物理学院, 贵州 贵阳 550025
提出并验证了一种利用载波抑制调制和半导体激光器注入锁定相结合的倍频三角波产生方案。方案中激光器发出的连续光经正弦信号驱动的马赫-曾德尔调制器进行抑制载波调制后分为两路, 一路保持不变, 另一路注入分布反馈激光器锁定放大调制光的高阶谐波分量, 获得六倍频信号。两路信号经相位和功率比控制, 合路后在光电探测器中叠加产生二倍频的三角波信号。实验利用频率为3 GHz和4 GHz的正弦调制信号产生了6 GHz和8 GHz的二倍频全占空三角波信号。理论分析和实验结果均证明了此方案的可行性, 避免了复杂的谱线操作, 所提方案更加简单高效, 在高重复频率三角波产生方面有显著优势。
光通信 微波光子学 时域综合 三角波 注入锁定 
中国激光
2018, 45(1): 0101005
作者单位
摘要
中国科学院光电技术研究所,成都 610209
研究了被激波调制的光子晶体对入射光产生的频率转换效应。建立了弹性激波调制一维光子晶体的物理模型;提出了准静态带隙结构的概念,并采用FDTD和平面波展开法计算了其光子带隙;通过数值计算和微扰分析,发现该频率转换是一个量化累积过程,并对该频率转换效应及其量化累积现象提出一种基于光子-声子相互作用和表面衰减模的解释,同时,分析了该频率转换效应的特性。
光子晶体 频率转换 激波 带隙结构 photonic crystal frequency shift shock wave bandgap structure 
光电工程
2008, 35(3): 117
作者单位
摘要
中国科学院光电技术研究所,微细加工光学技术国家重点实验室,四川,成都,610209
针对SU-8光刻胶应用于三维光子晶体的制作研究,本文提出并实现了对SU-8光刻胶的重要成分SU-8环氧树脂采用柱层析和高压液相色谱-尺寸排阻色谱法进行分离,分离结果表明SU-8环氧树脂分子量分布范围很大,从大约100~100000,包括SU-1、SU-2、SU-4、SU-6、SU-8多种组分及其混合物.采用分离后的SU-8和SU-6纯组分配制了性能优化的SU-8光刻胶,并总结了其最佳光刻工艺,结合干涉光刻技术制作了晶格常数为922nm的三维面心立方光子晶体结构.
SU-8光刻胶 三维光子晶体 柱层析 尺寸排阻色谱法 
光电工程
2007, 34(8): 28
作者单位
摘要
1 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,四川,成都,610209
2 兰州大学物理科学与技术学院,甘肃,兰州,730000
用光刻和反应离子刻蚀的方法对硅材料光子晶体板的制作进行了研究.实验发现,与激光直写曝光相比,光刻曝光更有利于胶上图形的陡直度.扫描电子显微镜测试表明,反应离子刻蚀后得到深3.3μm,晶格周期10.95μm,占空比50%的孔状光子晶体板结构,孔的陡直度保持较好,基本满足设计要求.
光子晶体 光刻 离子蚀刻 激光直写 扫描电子显微镜 
光电工程
2004, 31(2): 1
作者单位
摘要
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,四川,成都,610209
研究了晶格结构、填充比、介电常数比三个主要因素对二维空气圆柱型光子晶体完全禁带的影响.利用Bandsolve软件分别优化计算得到不同晶格结构、不同介电常数比的最大完全禁带,以及对应结构参数之间的关系.对于相同介电常数比,六边形晶格可获得较宽的完全禁带;而对于相同晶格结构,介电常数比越大,完全禁带宽度越大.
光子晶体 晶体 介电常数比 
光电工程
2004, 31(3): 16

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