光电工程, 2004, 31 (2): 1, 网络出版: 2007-11-14   

硅基光子晶体板的光刻和反应离子刻蚀

Lithography and Reactive Ion Etching of Silicon-Based Photon Crystal Slab
作者单位
1 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,四川,成都,610209
2 兰州大学物理科学与技术学院,甘肃,兰州,730000
引用该论文

张磊, 张晓玉, 张福甲, 姚汉民, 杜春雷, 刘强, 潘莉. 硅基光子晶体板的光刻和反应离子刻蚀[J]. 光电工程, 2004, 31(2): 1.

张磊, 张晓玉, 张福甲, 姚汉民, 杜春雷, 刘强, 潘莉. Lithography and Reactive Ion Etching of Silicon-Based Photon Crystal Slab[J]. Opto-Electronic Engineering, 2004, 31(2): 1.

参考文献

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张磊, 张晓玉, 张福甲, 姚汉民, 杜春雷, 刘强, 潘莉. 硅基光子晶体板的光刻和反应离子刻蚀[J]. 光电工程, 2004, 31(2): 1. 张磊, 张晓玉, 张福甲, 姚汉民, 杜春雷, 刘强, 潘莉. Lithography and Reactive Ion Etching of Silicon-Based Photon Crystal Slab[J]. Opto-Electronic Engineering, 2004, 31(2): 1.

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