硅基光子晶体板的光刻和反应离子刻蚀

张磊; 张晓玉; 张福甲; 姚汉民; 杜春雷; 刘强; 潘莉

光电工程, 2004, 31 (2): 1, 网络出版: 2007-11-14

硅基光子晶体板的光刻和反应离子刻蚀

Lithography and Reactive Ion Etching of Silicon-Based Photon Crystal Slab

张磊 ^1,2张晓玉 ¹张福甲 ²姚汉民 ¹杜春雷 ¹刘强 ¹潘莉 ¹

作者单位

¹ 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,四川,成都,610209

² 兰州大学物理科学与技术学院,甘肃,兰州,730000

图 & 表

张磊, 张晓玉, 张福甲, 姚汉民, 杜春雷, 刘强, 潘莉. 硅基光子晶体板的光刻和反应离子刻蚀[J]. 光电工程, 2004, 31(2): 1. 张磊, 张晓玉, 张福甲, 姚汉民, 杜春雷, 刘强, 潘莉. Lithography and Reactive Ion Etching of Silicon-Based Photon Crystal Slab[J]. Opto-Electronic Engineering, 2004, 31(2): 1.