液晶与显示, 2016, 31 (6): 532, 网络出版: 2016-11-14
原子层沉积方法制备低温多层Al2O3/TiO2复合封装薄膜的研究
Low-temperature multi-layer Al2O3/TiO2 composite encapsulation thin film by atomic layer deposition
引用该论文
周忠伟, 李民, 徐苗, 邹建华, 王磊, 彭俊彪. 原子层沉积方法制备低温多层Al2O3/TiO2复合封装薄膜的研究[J]. 液晶与显示, 2016, 31(6): 532.
ZHOU Zhong-wei, LI Min, XU Miao, ZOU Jian-hua, WANG Lei, PENG Jun-biao. Low-temperature multi-layer Al2O3/TiO2 composite encapsulation thin film by atomic layer deposition[J]. Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays, 2016, 31(6): 532.
周忠伟, 李民, 徐苗, 邹建华, 王磊, 彭俊彪. 原子层沉积方法制备低温多层Al2O3/TiO2复合封装薄膜的研究[J]. 液晶与显示, 2016, 31(6): 532. ZHOU Zhong-wei, LI Min, XU Miao, ZOU Jian-hua, WANG Lei, PENG Jun-biao. Low-temperature multi-layer Al2O3/TiO2 composite encapsulation thin film by atomic layer deposition[J]. Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays, 2016, 31(6): 532.