原子层沉积方法制备低温多层Al2O3/TiO2复合封装薄膜的研究

周忠伟; 李民; 徐苗; 邹建华; 王磊; 彭俊彪

doi:doi:10.3788/yjyxs20163106.0532

液晶与显示, 2016, 31 (6): 532, 网络出版: 2016-11-14

原子层沉积方法制备低温多层Al₂O₃/TiO₂复合封装薄膜的研究

Low-temperature multi-layer Al2O3/TiO2 composite encapsulation thin film by atomic layer deposition

周忠伟 ^1,2,*李民 ¹徐苗 ¹邹建华 ¹王磊 ¹彭俊彪 ¹

作者单位

¹ 华南理工大学材料科学与工程学院, 广东广州 510641

² 创维液晶器件（深圳）有限公司, 广东深圳 518108

图 & 表

周忠伟, 李民, 徐苗, 邹建华, 王磊, 彭俊彪. 原子层沉积方法制备低温多层Al₂O₃/TiO₂复合封装薄膜的研究[J]. 液晶与显示, 2016, 31(6): 532. ZHOU Zhong-wei, LI Min, XU Miao, ZOU Jian-hua, WANG Lei, PENG Jun-biao. Low-temperature multi-layer Al2O3/TiO2 composite encapsulation thin film by atomic layer deposition[J]. Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays, 2016, 31(6): 532.