液晶与显示, 2016, 31 (6): 532, 网络出版: 2016-11-14
原子层沉积方法制备低温多层Al2O3/TiO2复合封装薄膜的研究
Low-temperature multi-layer Al2O3/TiO2 composite encapsulation thin film by atomic layer deposition
基本信息
| DOI: | 10.3788/yjyxs20163106.0532 |
| 中图分类号: | TN383+.1 |
| 栏目: | 材料与器件 |
| 项目基金: | 深圳市技术攻关计划( No.JSGG20150331171053333)、广州市平板显示行业工程技术研究中心资助项目（No.2060502） |
| 收稿日期: | 2016-01-12 |
| 修改稿日期: | 2016-02-10 |
| 网络出版日期: | 2016-11-14 |
| 通讯作者: | 周忠伟 (jonychou@163.com) |
| 备注: | -- |
周忠伟, 李民, 徐苗, 邹建华, 王磊, 彭俊彪. 原子层沉积方法制备低温多层Al2O3/TiO2复合封装薄膜的研究[J]. 液晶与显示, 2016, 31(6): 532. ZHOU Zhong-wei, LI Min, XU Miao, ZOU Jian-hua, WANG Lei, PENG Jun-biao. Low-temperature multi-layer Al2O3/TiO2 composite encapsulation thin film by atomic layer deposition[J]. Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays, 2016, 31(6): 532.
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