强激光与粒子束, 2010, 22 (7): 1535, 网络出版: 2010-09-15
磁控溅射方法制备直径120 mm高均匀性Mo/Si多层膜
Fabrication of a high uniformity Mo/Si multilayer with a diameter of 120 mm using magnetron sputtering technology
基本信息
| DOI: | -- |
| 中图分类号: | O434 |
| 栏目: | ICF与激光等离子体 |
| 项目基金: | 国家自然科学基金项目(10825521, 10876023, 10905042)；国家高技术发展计划项目；上海市自然科学基金项目(09ZR1434300)；上海市科委纳米计划项目(0952nm06900)；上海市教育发展基金会晨光计划项目(2008CG25)；同济大学青年优秀人才培养计划项目 |
| 收稿日期: | 2009-10-23 |
| 修改稿日期: | 2010-03-15 |
| 网络出版日期: | 2010-09-15 |
| 通讯作者: | 潘磊 (kplo520@163.com) |
| 备注: | -- |
潘磊, 王晓强, 张众, 朱京涛, 王占山, 李乙洲, 李宏杰, 王道荣, 赵巨岩, 陆伟. 磁控溅射方法制备直径120 mm高均匀性Mo/Si多层膜[J]. 强激光与粒子束, 2010, 22(7): 1535. Pan Lei, Wang Xiaoqiang, Zhang Zhong, Zhu Jingtao, Wang Zhangshan, Li Yizhou, Li Hongjie, Wang Daorong, Zhao Juyan, Lu Wei. Fabrication of a high uniformity Mo/Si multilayer with a diameter of 120 mm using magnetron sputtering technology[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2010, 22(7): 1535.
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