强激光与粒子束, 2010, 22 (7): 1535, 网络出版: 2010-09-15
磁控溅射方法制备直径120 mm高均匀性Mo/Si多层膜
Fabrication of a high uniformity Mo/Si multilayer with a diameter of 120 mm using magnetron sputtering technology
Mo/Si多层膜 磁控溅射 均匀性 反射率 同步辐射 Mo/Si multilayer magnetron sputtering uniformity reflectivity synchrotron radiation
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