为了改善类金刚石(DLC)薄膜的应力和热稳定性，采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术，通过在原有设备上加入与流量控制器相连的双起泡器，并以氩气为运载气体，正丁烷为反应物，在硅基底上实现了以液态物质四甲基硅烷(TMS)为前驱物的Si 掺杂类金刚石薄膜的沉积。硬度、应力、表面粗糙度及热稳定性的测试表明，随着运载气体流量的增加，薄膜的应力分布、表面粗糙度和热稳定性都有很大程度的改善，但也导致薄膜的硬度下降，当运载气体的流量为30 mL/min(标准状态)时，Si 掺杂DLC 薄膜的石墨化温度可以达到600 ℃以上，薄膜的应力降低为0.65 GPa ，表面粗糙度降低到0.566 nm，但硬度下降为12.6 GPa。

为了探究氩气流量对含氢类金刚石薄膜(a-C:H)性能的影响规律，采用射频等离子体增强化学气相沉积（RFPECVD）技术，以正丁烷（C4H10）为反应物，在硅基底上沉积含氢类金刚石薄膜，通过改变氩气的流量分析氩气含量对含氢类金刚石薄膜性能的影响。红外光谱、表面粗糙度、硬度及热稳定性的测试表明，随着氩气流量的增加，降低了氢在类金刚石薄膜中的相对含量，在一定程度上增加了薄膜表面粗糙度，表面粗糙度由Ra= 3.732 nm 增加到Ra=8.628 nm，降低了薄膜的硬度，薄膜的硬度由23 GPa 降低到20 GPa，对类金刚石薄膜的热稳定性几乎无影响，但薄膜的应力从-1.8 GPa 降低到-1.1 GPa。

为满足鱼雷光纤制导系统的通信需要，实现鱼雷发射过程中与舰艇的信息交互，研制了一种低损耗通信滤光片.采用双离子束溅射技术作为镀膜方法，通过对几种靶材进行对比研究，依据低损耗滤光片的使用要求，选定新型合金靶材和SiO2靶材作为高低折射率溅射材料.以膜系设计理论为基础，通过膜堆的叠加来展宽短波截止带，依据等效折射率的概念优化匹配层厚度，使得滤光片的通带插入损耗降低了0.12 dB.在薄膜制备中，采用光电极值法和平均时间法相结合的方式监控膜层厚度，依据实验数据进行反馈分析，对非规则膜层厚度按比例整体修正，提高了膜厚控制准确度.制备的滤光片经膜层性能测试，满足鱼雷光纤制导系统的使用要求.

根据紫外告警模拟系统的使用要求，基于法布里帕罗(F-P)窄带滤光片结构，通过对膜系理论的分析、材料蒸发工艺的研究、离子源参数的调整和优化，利用不同膜系设计的组合，设计并制备出能够有效采集紫外信号的紫外滤光膜。该滤光膜在紫外峰值透射率达到17.96%，通带半峰全宽约为20 nm，能够更准确地采集到所需紫外波段的模拟信号，同时对紫外以及可见波段进行了有效地抑制，可以较好地控制背景噪声的产生，其截止度小于-30 dB。该滤光膜在紫外告警模拟系统中对自然光进行滤光，对紫外信号进行了有效地采集，使系统的整体精度得到了提升。

随着军用光学仪器的飞速发展，红外光学材料单晶硅广泛应用于红外光学元件和半导体行业，为了满足精密仪器对光学系统的要求，对光学元件的面型精度要求越来越高。针对红外跟踪系统中对高精度单晶硅透镜的加工技术要求，以Ф26 mm的单晶硅透镜为例，通过多次反复研磨修抛和检测分析，并不断优化工艺参数，设计了特殊的夹具，解决了单晶硅表面光洁度问题以及中心偏差难以控制的加工技术难题，并实现了批量生产。经检测，单晶硅非球面面形精度达到0.2 μm，表面光洁度达到Ⅲ级以上，中心偏差在1 μm以内，各项参数均满足了红外跟踪系统的要求。