1 郑州大学 力学与工程科学学院, 郑州 450001
2 长春理工大学 光电工程学院, 长春 130022
随着微电子、光电子、太阳能光伏技术的发展以及光学与电子学的融合及国内外市场竞争的日趋激烈, 以非球面光学元件为代表的先进技术日益成为一个国家制造实力的重要体现, 发展新的非球面加工技术, 提高加工精度和效率, 降低加工成本是不懈追求的目标。针对[Φ76.2]mm非球面透镜, 对铣磨成型工艺、抛光工艺、抛光设备等相关工艺参数进行了研究, 采用弹性模预抛光与小磨头修正抛光相结合的两步研抛法对零件表面快速抛光, 给出了一套规范的非球面数控加工工艺, 并对影响因素进行了分析。
非球面 铣磨成型 小磨头修正抛光 aspheric surface grinding process corrective polishing with small tool
长春理工大学 光电工程学院， 吉林 长春 130022
随着军用光学仪器的飞速发展，红外光学材料单晶硅广泛应用于红外光学元件和半导体行业，为了满足精密仪器对光学系统的要求，对光学元件的面型精度要求越来越高。针对红外跟踪系统中对高精度单晶硅透镜的加工技术要求，以Ф26 mm的单晶硅透镜为例，通过多次反复研磨修抛和检测分析，并不断优化工艺参数，设计了特殊的夹具，解决了单晶硅表面光洁度问题以及中心偏差难以控制的加工技术难题，并实现了批量生产。经检测，单晶硅非球面面形精度达到0.2 μm，表面光洁度达到Ⅲ级以上，中心偏差在1 μm以内，各项参数均满足了红外跟踪系统的要求。
非球面 单晶硅 修正抛光 面形精度 表面光洁度 aspheric single-crystal silicon corrective polishing surface accuracy surface smoothness
针对口径Φ62mm双凸非球面透镜，进行了数控研磨和抛光技术研究。提出了规范性的加工工艺流程，实现了中小口径双非球面元件的高效、快速抛光。根据计算机控制光学表面成型技术，采用全口径抛光和小抛头修抛的两步抛光法，在抛光中对其面形误差进行多次反馈补偿，使被加工零件表面的面形精度逐步收敛。最终两面的面形精度均小于0.5μm，中心偏差小于0.01mm，满足了光学系统中对非球面元件的精度要求，并且在保证有较高面形精度和较好表面光洁度的同时，解决了双非球面中心偏差和中心厚度难以控制的加工技术难题。
非球面 去除函数 面形精度 修正抛光 aspheric surface removing function form accuracy corrective polishing
