全同性原理要求电子波函数必须满足交换反对称性的条件,针对其对多电子系统的瞬态吸收谱产生的影响,运用Ritz变分法求出了具有全同反对称性的氦原子波函数。在此基础上,通过求解三能级模型并与不考虑电子交换作用的旧模型对比,在理论上研究了氦原子阿秒极紫外(XUV)光瞬态吸收谱。该研究突破传统所采用的单电子跃迁模型,重点考虑电子的交换作用对XUV光瞬态吸收谱的影响。研究发现该交换作用对该瞬态吸收谱的强度和吸收峰的位置等物理量都有重要的影响,该研究结果可为运用瞬态吸收谱探测原子内电子超快关联动力学提供参考。
原子与分子物理学 氦原子的XUV光吸收谱 交换作用 三能级模型 Ritz变分法 全同反对称性
长春理工大学光电工程学院, 吉林 长春 130022
根据紫外光学系统的设计要求，在K9基底上研制了254nm高反射率、可见光谱区高透过率的低通滤光片。根据膜系设计理论，通过针法优化，获得了干涉型低通滤光片的膜系；对电子束蒸镀HfO2和MgF2材料进行了研究，解决了材料喷溅的问题，减少了薄膜的吸收；采用考夫曼离子源，通过优化工艺参数，提高膜层致密性，解决了光谱曲线漂移的问题，改善了成膜质量。
紫外低通滤光片 考夫曼离子源 电子束蒸发 材料吸收 UV low-pass filter Kaufman ion source electron beam evaporation material absorption
针对口径Φ62mm双凸非球面透镜，进行了数控研磨和抛光技术研究。提出了规范性的加工工艺流程，实现了中小口径双非球面元件的高效、快速抛光。根据计算机控制光学表面成型技术，采用全口径抛光和小抛头修抛的两步抛光法，在抛光中对其面形误差进行多次反馈补偿，使被加工零件表面的面形精度逐步收敛。最终两面的面形精度均小于0.5μm，中心偏差小于0.01mm，满足了光学系统中对非球面元件的精度要求，并且在保证有较高面形精度和较好表面光洁度的同时，解决了双非球面中心偏差和中心厚度难以控制的加工技术难题。
非球面 去除函数 面形精度 修正抛光 aspheric surface removing function form accuracy corrective polishing
