1 中国电子科技集团公司 第三十三研究所，山西 太原 030000
2 电磁防护材料及技术山西省重点实验室，山西 太原 030006
利用电沉积法制备磁屏蔽薄膜，不仅可以精确控制沉积膜的化学成分和厚度，而且可以在复杂几何形状的表面上形成薄膜。通过电沉积装置制备了铁镍-铜-铁镍多层复合磁屏蔽薄膜，并探究了磁场强度、厚度、高温环境对磁屏蔽薄膜屏蔽效能的影响。实验结果表明，50 μm和100 μm样品的屏蔽效能随磁场强度的增大而增大，200 μm的屏蔽效能则是先增大后降低；在4~16 Oe磁场中，厚度越大，薄膜屏蔽效果越好；100 ℃的温度会降低所有厚度的磁屏蔽薄膜的屏蔽效能。
磁屏蔽 铁镍合金 电沉积 屏蔽效能 微结构 magnetic shielding iron-nickel alloy electrodeposition shielding efficiency microstructure 太赫兹科学与电子信息学报
2020, 18(2): 259
