1 中国电子科技集团公司 第三十三研究所，山西 太原 030000
2 电磁防护材料及技术山西省重点实验室，山西 太原 030006
利用电沉积法制备磁屏蔽薄膜，不仅可以精确控制沉积膜的化学成分和厚度，而且可以在复杂几何形状的表面上形成薄膜。通过电沉积装置制备了铁镍-铜-铁镍多层复合磁屏蔽薄膜，并探究了磁场强度、厚度、高温环境对磁屏蔽薄膜屏蔽效能的影响。实验结果表明，50 μm和100 μm样品的屏蔽效能随磁场强度的增大而增大，200 μm的屏蔽效能则是先增大后降低；在4~16 Oe磁场中，厚度越大，薄膜屏蔽效果越好；100 ℃的温度会降低所有厚度的磁屏蔽薄膜的屏蔽效能。
磁屏蔽 铁镍合金 电沉积 屏蔽效能 微结构 magnetic shielding iron-nickel alloy electrodeposition shielding efficiency microstructure 太赫兹科学与电子信息学报
2020, 18(2): 259
北京真空电子技术研究所微波电真空器件国家级重点实验室, 北京 100015
对无氧铜、铁镍钴合金和镀金铁镍钴合金制作的 WR2.8太赫兹波导进行了传输损耗的研究。通过对比实验测得的传输损耗值, 计算出 340 GHz频段, 无氧铜电导率为 1.6×107 S/m, 铁镍钴合金电导率为 1.0×106 S/m, 相对磁导率为 2.1, 损耗参数的设置对正向设计具有指导作用。实验中, 通过镀金工艺降低了铁镍钴合金波导的传输损耗, 进而明确波导内壁镀金工艺可以有效降低传输损耗, 对降低太赫兹标准窗的传输损耗有着实际意义。
太赫兹 无氧铜 铁镍钴合金 镀金 传输损耗 terahertz copper iron-nickel alloy gilding transmission loss 太赫兹科学与电子信息学报
2016, 14(6): 825
