1 同济大学 物理科学与工程学院, 先进微结构材料教育部重点实验室, 上海 200092
2 中国科学院 高能物理研究所, 北京 100049
用直流磁控溅射法结合掩模板控制膜厚的方法在Si衬底上制备了工作于6.8~11.0 nm波段的［Mo/B4C］60横向梯度多层膜。利用X射线掠入射反射测试以及同步辐射反射率测试对梯度多层膜的结构及性能进行了测试。X射线掠入射反射测试结果表明, 多层膜周期厚度沿着长轴方向从4.39 nm逐渐增加到7.82 nm, 周期厚度平均梯度为0.054 nm/mm。对横向梯度多层膜沿长轴方向每隔5 mm进行了一次同步辐射反射率测试, 结果显示, 横向梯度多层膜在45°入射角下的反射率约为10％, 反射峰的半高全宽介于0.13 nm到0.31 nm之间。
极紫外 横向梯度多层膜 磁控溅射 同步辐射 EUV laterally graded periodic multilayer Mo/B4C Mo/B4C magnetron sputtering synchrotron radiation 强激光与粒子束
2018, 30(6): 061001
同济大学 物理科学与工程学院 先进微结构材料教育部重点实验室, 上海200092
Sc/Si周期多层膜是极紫外波段的重要材料,但膜层界面处材料原子间的扩散与化合反应严重影响了多层膜反射率。为了无损表征多层膜界面化合物的成分,利用软X射线共振反射的方法,研究了Sc/Si多层膜界面化合物成分。在Si的L吸收边附近,计算了不同周期厚度以及不同界面硅化物成分的Sc/Si多层膜的共振反射率。结果表明,界面硅化物成分不同的膜系在Si的L边处的反射率有明显差异,并且反射率随着膜层中Si化合反应的消耗而降低,证实了软X射线共振反射方法在亚纳米尺度下对化合物的成分进行无损分析的可行性,为后续的实验研究提供参考。
软X射线共振反射 Sc/Si周期多层膜 界面成分 原子散射因子 soft X-ray resonant reflection Sc/Si periodic multilayers interface composition atomic scattering factor
