针对超薄光学元件在加工过程中因重力和磨头产生应力形变的特点, 提出了一种高效、先进的超薄光学元件综合加工方法。该方法综合运用了精密铣磨、精密抛光、离子束修形等先进技术进行面形控制。在铣磨阶段采用受力分析和误差补偿的方法降低了元件变形引入的面形误差; 在抛光阶段通过气囊抛光和沥青抛光的迭代实现了面形快速收敛; 在离子束加工阶段充分利用其非接触、无应力的加工特点实现了高精度面形修正。实验选择径厚比为34(边长152 mm, 厚度635 mm)的方形融石英材料进行加工实验。结果表明：在铣磨、抛光、修形阶段的各项指标都达到了精密光学元件的加工水平, 最终的面形精度为PV=25 nm, RMS=15 nm。该加工方法可以广泛应用于超薄光学元件的高精度加工。

为了改善混合高斯模型在光照突变时容易产生大量误检的缺陷, 采用了一种高斯模型与均值法相结合并为前景像素建立计数器的方法。在建立背景模型时, 运用多帧图像求平均值的方法初始化混合高斯模型的背景;为每帧图像的前景像素数建立计数器, 并以此消除被误判为前景的区域;对检测出的前景区运用数学形态学处理, 得到图像真正的前景区域。结果表明, 该算法不仅克服了初始背景中的干扰, 而且消除了光照突变时的误检, 提高了运动目标的检测率。

利用TMCM-351E驱动控制板卡及自编的自动准直控制软件对高功率激光装置光束进行检测和准直，并设计了一套新型光路监测准直系统。采用变结构控制算法实现了近远场基准中心和光斑中心的自动提取，有效地提高了系统的精度、稳定性和准直效率。在实验平台上进行了验证。实验结果表明，相对传统监测准直方法，该监测准直系统平均准直误差为空间滤波器小孔直径的0.9%，能够满足准直系统远场调整精度（小于小孔直径的5%）和近场调整精度（小于小孔直径的1%）的要求，在连续10 h测试过程中，角度抖动为±12.6 μrad，显示出高的稳定性。该系统在某高功率激光装置的光路自动准直中得到有效应用。实际验证表明，8路预放光路准直时间小于3 min，主放光路准直时间小于7 min。

为满足高功率激光驱动器光束自动准直的高精度和实时性要求，提出了一种快速高精度的自动准直目标定位算法。首先利用变结构元广义数学形态学边缘检测算法在充分提取图像边缘细节信息的同时抑制图像噪声的影响，然后采用拉格朗日多项式插值算法对圆目标轮廓进行快速亚像素定位，最后利用最小二乘拟合以及几何形心拟合的方法实现图像中光斑目标中心的精确定位。该算法在神光Ⅱ升级装置的光路自动准直中得以验证，实验结果表明八路预放光路准直时间小于3 min，主放光路准直时间小于7 min，主放输出光束近场准直准确度优于0.2%，远场指向准确度优于0.2″(RMS)。

为了提高AlGaN/GaN HEMT的频率,采用了缩小源漏间距、优化栅结构和外围结构等措施设计了器件结构，并基于国内的GaN外延片和工艺完成了器件制备.测试表明所研制的AlGaN/GaN HEMT可以满足Ka波段应用.其中2×75μm栅宽AlGaN/GaN HEMT在30V漏压下的截止频率为32GHz，最大振荡频率为150GHz；在30GHz连续波测试条件下，线性增益达到10.2dB.6×75μm栅宽AlGaN/GaN HEMT的截止频率为32GHz，最大振荡频率为92GHz；在30GHz连续波测试条件下，线性增益达到8.5dB.器件的击穿电压在60V以上.

为了表征不同涂层表面的偏振光学散射特性,在基于微面元理论的偏振双向反射分布函数模型的基础上,针对不同涂层样品提出了一种适用范围更广的多参量偏振双向反射分布函数模型.采用遗传算法对实验数据进行模型参量拟和.实验结果表明,对几种不同的涂层样品,这种多参量模型的模拟计算结果与测量结果均能较好吻合,可以为后续的目标偏振特征提取与识别工作提供参考.

为了实现高压变电站室内SF₆气体浓度的精确实时检测，对红外激光吸收方法用于SF₆检测进行了研究和分析。根据SF₆气体在红外波段(10．55μm)的强吸收特性，研究了在该波段下SF₆吸收特性和其浓度之间的关系，并得出了二者之间的关系曲线。该方法为高压变电站室内SF₆气体的定量检测提供了理论基础。

简要介绍剪切电子散斑干涉的基本原理,将标准试件在受栽后的位移和位移梯度干涉条纹,通过CCD摄取并进行处理,从干涉条纹直接获得令人满意的结果,通过实验说明该技术能够应用在各个不同的场合,将成为无损检测的有效方法.

为了表征复杂涂层表面的光学散射特性,基于微面元理论的偏振双向反射分布函数模型,利用遗传算法从实验数据中反演出模型的关键参量。采用C＋＋语言对偏振双向反射分布函数模型进行了数值模拟,分析了模型参量对偏振双向反射分布函数的影响。数值模拟结果与实验数据的对比表明,该模型算法有较高的模拟精度,可以为后续的目标特征提取与识别工作提供参考。