封瑞泽 1,2曹书睿 1,2冯识谕 1,2周福贵 1,2[ ... ]金智 1,2,*
作者单位
摘要
1 中国科学院微电子研究所,高频高压器件与集成电路研究中心,北京 100029
2 中国科学院大学集成电路学院,北京 100049
本文设计并制作了fT > 400 GHz的In0.53Ga0.47As/In0.52Al0.48As 铟磷高电子迁移率晶体管(InP HEMT)。采用窄栅槽技术优化了寄生电阻。器件栅长为54.4 nm,栅宽为2 × 50 μm。最大漏极电流IDS.max为957 mA/mm,最大跨导gm.max为1265 mS/mm。即使在相对较小的VDS = 0.7 V下,电流增益截止频率fT达到了441 GHz,最大振荡频率fmax达到了299 GHz。该器件可应用于太赫兹单片集成放大器和其他电路中。
铟磷高电子迁移率晶体管(InP HEMTs) InGaAs/InAlAs 电流增益截止频率(fT 最大振荡频率(fmax 栅槽 InP HEMTs InGaAs/InAlAs current gain cutoff frequency (fT maximum oscillation frequency (fmax gate recess 
红外与毫米波学报
2024, 43(3): 329
作者单位
摘要
1 东南大学 毫米波全国重点实验室,江苏 南京 210096
2 紫金山实验室,江苏 南京 211111
本文基于0.1-μm砷化镓赝配高电子迁移率晶体管(GaAs pHEMT)工艺,研制了一款覆盖整个W波段的宽带低噪声放大器。提出了一种由双并联电容组成的旁路电路,能够提供宽带射频接地,减小了级间串扰,利于实现宽带匹配。采用双谐振匹配网络实现了宽带的输入匹配和最佳噪声匹配。实测结果显示,最大增益在108 GHz处达到20.4 dB,在66~112.5 GHz范围内,小信号增益为16.9~20.4 dB。在90 GHz处,实测噪声系数为3.9 dB。实测的输入1-dB压缩点在整个W波段内约为-12 dBm。
砷化镓赝配高电子迁移率晶体管 低噪声放大器 宽带 W波段 GaAs pHEMT low noise amplifier (LNA) wide band W-band 
红外与毫米波学报
2024, 43(2): 187
作者单位
摘要
1 华东师范大学 物理与电子科学学院,上海 200241
2 南通大学 交通与土木工程学院,江苏 南通 226019
提出了一种改进的高电子迁移率晶体管寄生电阻提取方法,该方法利用了特殊偏置点(Vgs > Vth,Vds = 0 V)的等效电路模型,推导了寄生电阻的表达式,采用半分析法对寄生电阻进行了优化。1 ~110 GHz S参数实测结果和仿真的S参数一致,证明该方法是有效的。
铟化磷高电子迁移率晶体管 等效电路模型 寄生电阻 器件建模 InP high electron mobility transistor(HEMT) equivalent circuit model extrinsic resistances modeling 
红外与毫米波学报
2024, 43(1): 85
作者单位
摘要
西南交通大学 微电子研究所, 成都 611756
为了进一步提升P-GaN 栅HEMT器件的阈值电压和击穿电压, 提出了一种具有P-GaN栅结合混合掺杂帽层结构的氮化镓高电子迁移率晶体管(HEMT)。新器件利用混合掺杂帽层结构, 调节整体极化效应, 可以进一步耗尽混合帽层下方沟道区域的二维电子气, 提升阈值电压。在反向阻断状态下, 混合帽层可以调节栅极右侧电场分布, 改善栅边电场集中现象, 提高器件的击穿电压。利用Sentaurus TCAD进行仿真, 对比普通P-GaN栅增强型器件, 结果显示, 新型结构器件击穿电压由593 V提升至733 V, 增幅达24%, 阈值电压由0509 V提升至1323 V。
氮化镓高电子迁移率晶体管 增强型 击穿电压 混合帽层 GaN HEMT enhancement-mode breakdown voltage hybrid cap layer 
微电子学
2023, 53(4): 723
陈晓娟 1,2,*张一川 2张昇 2李艳奎 2[ ... ]魏珂 2,**
作者单位
摘要
1 西安电子科技大学,陕西 西安 710071
2 中国科学院微电子研究所,北京 100029
本文采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)生长原位SiNx栅介质制备了用于Ka波段高功率毫米波应用的AlN/GaN金属绝缘体半导体高电子迁移率晶体管(MIS-HEMTs)。原位生长SiNx栅介质显著抑制了栅反向漏电、栅介质/AlN界面态密度和电流坍塌。所研制的MIS HEMTs在VGS= 2 V时最大饱和输出电流为2.2 A/mm,峰值跨导为509 mS/mm,在VGS = -30 V时肖特基栅漏电流为4.7×10-6 A/mm。采用0.15 μmT形栅技术,获得98 GHz的fT和165 GHz的fMAX。大信号测量表明,在连续波模式下,漏极电压VDS = 8 V时,MIS HEMT在40 GHz下输出功率密度2.3 W/mm,45.2%的功率附加效率(PAE),而当VDS增加到15 V时,功率密度提升到5.2 W/mm,PAE为42.2%。
AlN/GaN 金属绝缘体半导体高电子迁移率晶体管 Ka波段 低损耗 低偏压 AlN/GaN metal-insulator-semiconductor High Electron Mobility Transistors(MIS-HEMTs) millimeter wave low dispersion low drain voltage 
红外与毫米波学报
2023, 42(4): 483
作者单位
摘要
1 中国电子科技集团公司 第十三研究所,河北 石家庄 050051
2 南通大学 交通与土木工程学院,江苏 南通 226019
3 华东师范大学 物理与电子科学学院,上海 200241
基于70 nm InP HEMT工艺,设计了一款五级共源放大级联结构230~250 GHz低噪声太赫兹单片集成电路(TMIC)。该放大器采用扇形线和微带线构成栅极和源极直流偏置网络,用以隔离射频信号和直流偏置信号;基于噪声匹配技术设计了放大器的第一级和第二级,基于功率匹配技术设计了中间两级,最后一级重点完成输出匹配。在片测试结果表明,230~250 GHz频率范围内,低噪声放大器的小信号增益大于20 dB。采用Y因子法对封装后的低噪声放大器模块完成了噪声测试,频率为243~248 GHz时该MMIC放大器噪声系数优于7.5 dB,与HBT和CMOS工艺相比,基于HEMT工艺的低噪声放大器具有3 dB以上的噪声系数优势。
铟磷高电子迁移率晶体管(InP HEMT) 低噪声放大器(LNA) 太赫兹集成电路(TMIC) InP HEMT low noise amplifier(LNA) terahertz integrated circuit(TMIC) 
红外与毫米波学报
2023, 42(1): 37
刘一霆 1,2,3丁青峰 2,3,4冯伟 1,2,3朱一帆 1,2,3[ ... ]程凯 5
作者单位
摘要
1 中国科学技术大学 纳米技术与纳米仿生学院,安徽 合肥 230026
2 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 纳米器件与应用重点实验室,江苏 苏州 215123
3 江苏省纳米器件重点实验室,江苏 苏州 215123
4 上海科技大学 物质科学与技术学院,上海 201210
5 苏州晶湛半导体有限公司,江苏 苏州 215000
矢量测量是表征太赫兹波段天线与准光系统波束特性的主流技术。该文介绍了一种基于AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(High-electron-mobility transistor, HEMT)混频探测器的太赫兹矢量测量系统。该系统核心器件为以准光-波导为耦合方式的高灵敏度太赫兹混频探测器,在340 GHz频率外差模式下,其噪声等效功率达−113 dBm/Hz。为了抑制系统相位噪声,搭建了基于二次下变频原理的硬件电路。通过对固定位置天线的长时间测量,表明系统相位稳定度优于4°,系统最小可测功率达到119 nW。基于相干AlGaN/GaN HEMT混频探测器实现了太赫兹连续波幅度和相位分布测量,该工作为后续阵列化太赫兹矢量测量提供了基础。
矢量测量 太赫兹探测器 相干探测 高电子迁移率晶体管 氮化镓 vector measurement terahertz detector coherent detection HEMT GaN 
红外与激光工程
2023, 52(1): 20220278
作者单位
摘要
合肥芯谷微电子股份有限公司, 合肥 230011
L波段功率单管有增大功率的需求,但会面临体积较大的问题。基于0.5 μm工艺研发了GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)管芯,单芯功率达到300 W。通过负载牵引仿真提取模型的输入、输出最佳阻抗点。用高介电常数薄膜电路设计L-C网络,拉高芯片的输入输出阻抗,并抵消虚部。用微带电路设计两级阻抗变换的宽带功率分配器及合路器电路,进行四胞管芯合成。内置稳定电路、栅极和漏极供电偏置电路,实现高度集成化、小型化,以及50 Ω输入输出阻抗匹配。芯片总栅宽4×40 mm,在漏压50 V、脉宽40 μs、占空比4%的测试条件下,在0.96 GHz到1.225 GHz的宽带频段内,输出功率为60 dBm到61.2 dBm,效率为57.9%到72%,饱和功率增益大于14 dB。
L波段 内匹配 氮化镓 高电子迁移率晶体管 L-band internal matching GaN HEMT 
微电子学
2022, 52(6): 1050
作者单位
摘要
1 中国电子科技集团公司第十三研究所,河北 石家庄 050051
2 华东师范大学 物理与电子科学学院,上海 200241
基于90 nm InP HEMT工艺,设计了一款220 GHz功率放大器太赫兹单片集成电路,该放大器采用片上威尔金森功分器结构实现了两路五级共源放大器的功率合成。在片测试结果表明,200~230 GHz频率范围内,功率放大器小信号增益平均值18 dB。频率为210~230 GHz范围内该MMIC放大器饱和输出功率优于15.8 mW,在223 GHz时最高输出功率达到20.9 mW,放大器芯片尺寸为2.18 mm×2.40 mm。
铟磷高电子迁移率晶体管(InP HEMT) 功率放大器(PA) 太赫兹集成电路(TMIC) InP high electron mobility transistor(InP HEMT) power amplifier(PA) terahertz integrated circuit(TMIC) 
红外与毫米波学报
2022, 41(6): 1037
作者单位
摘要
1 西安电子科技大学 微电子学院 宽禁带半导体技术国防重点学科实验室,陕西 西安 710071
2 中兴通讯股份有限公司,广东 深圳 518057
提出了一种用于InP 高电子迁移率晶体管(high electron mobility transistor,HEMT)的分布式小信号等效电路建模方法。在采用的模型中考虑了分布电容效应,通过加入三个分布电容来表征。为了精确建模,在提取寄生电容时考虑到寄生电感引入的误差,首先提取了寄生电感。在达到50 GHz的InP HEMT中,小信号建模方法的有效性得到了验证。此外,在2~50 GHz频率范围内,S参数建模误差小于4%,这也证明了所提出建模方法的高建模精度。
分布式模型 小信号模型 模型参数 提取方法 高电子迁移率晶体管 distributed model small signal model model parameters extraction methods high electron mobility transistor(HEMT) 
红外与毫米波学报
2022, 41(2): 511

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