目前荧光成像技术在生物医学领域得到越来越广泛的应用。为了缩短产品设计和开发周期,且能更直观地反映系统的成像效果,根据各模块光谱特性曲线,提出了荧光成像链路模型。利用该模型,对荧光成像系统的对比度进行了分析,验证了滤光片光密度(OD)值的合理范围是在5～7之间。最后以荧光显微镜为例,对系统成像过程进行了仿真。结果表明,各模块不匹配也会对系统对比度产生影响,仿真图像能够直观反映出系统的匹配程度和成像效果,并与实际系统测试结果相吻合,证明了该链路模型仿真的可行性和有效性。

理论计算了Ni、Cr和Ni80Cr20三种材料的光学特性,确定了镍铬成份变化对Ni80Cr20的影响。在高低两个真空度条件下采用电子枪蒸发工艺进行了Ni80Cr20的镀膜实验,结果表明,低真空度时“薄”膜的中性度较好,而高真空度时“厚”膜中性度较好。采用X射线能谱分析发现“薄”膜铬含量高于膜料,而“厚”膜更高,高真空度薄膜略有氧化,而低真空度氧化更严重。从残余气体和蒸发方式方面分析了镍铬成份差异的原因,再结合氧化对薄膜特性的影响,确定了不同真空度薄膜中性度差异的原因。

为了说明光学薄膜行业相关标准的发展概况, 对光学薄膜技术领域相关国家标准和行业标准进行了总结, 主要归纳为5个主题方向:膜层功能、面形偏差、表面疵病、环境适应性及产品应用等。介绍了各个主题方向包含的主要标准及发展历程, 重点介绍了膜层功能主题方向的标准从1977年以来的4个阶段性发展历程。针对各个主题方向, 分析了各个主题方向的国家标准及行业标准的适用性, 并提出了光学薄膜领域国家标准及行业标准发展的5项建议:更新相关标准, 系列化归纳标准, 统一规范标准引用, 对复杂标准增加解释说明, 根据产业发展需求制定相关新标准。

对比了用不同镀制工艺方式镀制的 Ni80Cr20膜中性密度滤光片的中性度特性, 溅射工艺镀制的密度片中性度值 3.7%, 远好于电子枪蒸发和电阻蒸发镀制结果 (15%)。采用相平衡理论, 模拟计算了的热蒸发镀制的镍铬合金膜的蒸发速率, 铬相比镍含量偏高 2.8倍, 导致了膜层中合金含量相对膜料出现较大差异, 导致中性密度滤光片光谱中性度的下降。使用蔡司 SUPRA35扫描电镜和牛津 EDS能谱仪分别测试了溅射工艺和热蒸发工艺镀制的密度滤光片的镍铬含量, 测试结果与模拟分析结论基本一致。

中性度是表征中性密度滤光片中性程度的一项重要指标,为了对中性度进行评价,通过分析和总结现有工程中的一些关于中性程度的表述,并结合密度滤光片的测试光谱曲线,总结出了光密度曲线的归一化比较方法。为进一步对中性度进行量化,提出了标准中性度的定义,并给出了中性度的具体算法。该算法简单、易行、直观,便于实施推广。经过该方法量化后的中性度指标不仅可用于标注标准密度滤光片产品的中性程度,也可用于非标产品中性程度评价和约束。

Plasma ion-assisted deposition (PIAD) process for ultraviolet (UV)-induced transmission and full dielectric thin-film filters in the 200–400 nm spectral region is described. The design and manufacturing method of the UV filters are introduced. The UV filters exhibit deep blocking (> optical density (OD)5–OD6), high transmittance, and stable environment durability. These UV filters pass 10 cycles in an aggravated temperature-humidity test, according to ISO9022-2 and MIL-STD-810F standards.

利用速率方程分析了短腔染料激光的瞬态行为, 着重探讨了加入适量饱和吸收体后其输出皮秒(ps)和飞秒(fs)激光脉冲的方法及特性, 发现与实验结果基本一致。

报道固体选通光谱多重光谱烧孔研究的新进展，分析影响多重烧孔形成的一些主要因素，首次报道了在有机材料ZnTbP/CA/PhR的非均匀加宽线内获得一次连续烧出100多光谱孔的结果，还进一步报道用窄带激光获得更窄线宽的光谱烧孔的情况。