传统石英光纤的涂覆层一般是聚合物，在高温下极易发生降解，这种特性是光纤在高温环境下难以被应用的主要原因。金属材料比聚合物具有更好的耐高温特性，可以有效地保护光纤表面免受侵蚀，是耐高温光纤涂覆层材料的研究热点。本文分析和对比了五种主要的光纤表面金属化涂覆方法（真空蒸镀、溅射、电镀、化学镀、熔融涂覆）。结果表明，金属化光纤适宜在极端环境中进行信息的传输和传感，因为化学镀较为经济环保，已成为目前光纤小范围金属化的主要方法；熔融涂覆技术利用拉丝塔在线制备耐高温光纤，是金属化工业生产的主流选择。

薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)成盒配向膜涂覆工艺中, 配向膜的厚度、均一性和涂覆膜面质量直接影响液晶显示器的显示效果, 为此本文研究了喷墨涂覆工艺对配向膜质量的影响。首先优化喷墨涂覆工艺, 分析了喷吐频率对喷吐量及其均一性有显著影响。其次分析了负压、涂覆速度、配向膜溶液固含量、涂覆密度等条件对配向膜膜面质量的影响。实验表明当喷吐频率为1 000~8 000 Hz时, 喷吐量均一性满足要求; 当吐出频率达到10 000 Hz时, 喷吐量严重不均一, 不满足生产需求。得出喷涂频率、吐出量、负压、涂覆速度、配向膜溶液固含量、涂覆密度的优化条件分别为: 3 000~5 000 Hz、50~70 pL、中心值±100 Pa、500~600 mm/s、 (3.9 ±0.4)%、50%~50.3%。降低配向膜溶液固含量可改善涂覆性不均缺陷, 改变吐出密度可改善涂覆性不均缺陷, 画质质量得到提升。本文对成盒工段配向膜涂覆质量优化取得了良好效果, 能满足工程实践量产的需要。

对比了用不同镀制工艺方式镀制的 Ni80Cr20膜中性密度滤光片的中性度特性, 溅射工艺镀制的密度片中性度值 3.7%, 远好于电子枪蒸发和电阻蒸发镀制结果 (15%)。采用相平衡理论, 模拟计算了的热蒸发镀制的镍铬合金膜的蒸发速率, 铬相比镍含量偏高 2.8倍, 导致了膜层中合金含量相对膜料出现较大差异, 导致中性密度滤光片光谱中性度的下降。使用蔡司 SUPRA35扫描电镜和牛津 EDS能谱仪分别测试了溅射工艺和热蒸发工艺镀制的密度滤光片的镍铬含量, 测试结果与模拟分析结论基本一致。

采用提拉法在硅基底上制备了多孔溶胶凝胶SiO2膜，用椭偏法测量薄膜的厚度与折射率，考察了提拉速度和胶体浓度对膜层厚度与折射率的影响。对厚度与提拉速度的关系进行线性与幂函数拟合，并比较分析两种拟合的关系及其对工艺流程的作用。比较了不同浓度胶体所得到的同一厚度薄膜的折射率变化规律。结果表明: 对于同一胶体浓度下薄膜厚度与提拉速度的正相关关系，线性拟合相比幂函数拟合可以更好地解释实验结果的规律性。同时，折射率在一定范围内也会随着提拉速度的增加而减小。镀同一厚度膜时，浓度大的胶体膜层折射率大。通过对提拉速度和胶体浓度的控制可以得到理想的薄膜厚度与折射率。

在惯性约束聚变(ICF)实验中, 点火靶丸表面(界面)的粗糙度和缺陷所产生的流体力学不稳定性是决定点火成功与否的关键因素之一, 设计和研制流体力学不稳定性分解实验用靶是解决该问题的主要技术手段。结合国内外的研究现状和神光-Ⅱ激光装置的特点, 设计并研制了一种新型柱状激波管。该靶型由三种介质组成, 分别为调制聚苯乙烯(CH)圆片、柱状碳气凝胶(CRF)和CH微套管。调制CH圆片和柱状CRF通过微加工技术装配到CH微套管内, 封装后形成柱状激波管。介绍了该靶型的设计原理和详细的制备工艺, 并对相应的靶参数进行了测量。结果表明: 柱状CRF气凝胶具有较好的成型性, 长度、直径和密度分别为1000 μm、730 μm和250 mg·cm-3; CH圆片的厚度和直径分别为15 μm和730 μm, 表面调制图形的周期和峰谷差分别为100 μm和4.3 μm; 实验得到的柱状激波管的轴向和径向最大装配误差分别为2 μm和3 μm。

为了研究惯性约束聚变(ICF)实验用靶丸不同密度界面的流体力学不稳定性增长，设计并制备了聚苯乙烯(CH)/碳气凝胶(CRF),CRF /硅气凝胶(SiO2)和CH/Al三种双介质调制靶。采用溶胶-凝胶工艺制备了密度分别为250和800 mg/cm3的CRF气凝胶薄片；采用激光微加工工艺分别在两种不同密度的CRF薄片和工业用纯Al箔上引入调制图形；采用旋涂工艺在Al箔和CRF薄片(250 mg/cm3)的调制表面制备一层CH薄膜，得到CH/Al和CH/CRF双介质调制靶，采用溶胶-凝胶工艺在CRF薄片(800 mg/cm3)表面制备一层低密度SiO2气凝胶，得到CRF/SiO2双介质调制靶。采用电子天平、扫描电子显微镜、工具显微镜和台阶仪对所制备的CH/CRF,CRF/SiO2和CH/Al三种双介质调制靶进行靶参数测量。结果表明: 三种双介质调制靶层与层之间结合紧密，界面清晰，调制图形为正弦，靶参数测量准确。

树脂材料表面平坦度高, 光透过率高, 介电常数低(ε≈3.5), 在薄膜晶体管显示器(TFT-LCD)中使用树脂材料作为钝化层, 可以降低公共电极和源、漏金属之间的电容, 降低逻辑功耗, 达到降低整体功耗的目的, 同时增大开口率。文章讨论在边缘场中引入树脂材料作为钝化层产生的与氧化铟锡(ITO)刻蚀相关问题: 金属Mo腐蚀, ITO 缺失等。通过优化刻蚀工艺, 感光树脂与非感光树脂和ITO刻蚀液的搭配, 以及改变树脂涂胶工艺, 成功地将树脂引入TFT-LCD中。