基于平面激光诱导荧光(PLIF)技术，在常温常压下对富燃料正丁烷/空气同轴射流预混火焰结构及热释放率(HRR)特性进行了实验研究。通过火焰轴截面的OH-PLIF与CH₂O-PLIF二维测量以及[OH]×[CH₂O]归一化乘积获得热释放率分布特性，计算得到火焰面厚度值，并与火焰自发光CH*自由基表征的热释放率分布与火焰厚度值进行比较。结果表明：火焰中热释放率区域位于CH₂O与OH自由基峰值之间，基于PLIF测量得到的热释放率区间比CH*自发光区域稍小；燃料当量比对热释放率峰值位置和分布区域有较大的影响，但低雷诺数下预混气初始流速对热释放率分布的影响较小；根据OH自由基与CH₂O峰值位置间距得到的火焰面厚度值明显大于利用CH*自发光和[OH]×[CH₂O]得到热释放率的半峰全宽。

针对光刻投影物镜中动镜X-Y向调节机构精度高、行程小、结构紧凑的需求，提出了一种X-Y向一体式调节机构。所提机构基于四连杆调节原理，利用内外圈独立分布的X-Y向柔性铰链，无需解耦即可实现X/Y向高精度调节。首先根据投影物镜中动镜的调节精度和行程，完成所提机构的结构设计；然后运用有限元分析法仿真分析所提X-Y向柔性调节机构的性能。分析结果表明：所提机构调节行程大于±20 μm，X向、Y向的刚度值分别为0.542 μm/N、0.671 μm/N；单X、Y向开环驱动时，垂直方向耦合误差与主方向移动量之比分别为6.86%、4%；模态大于100 Hz。最后，对所提调节机构进行了性能测试实验，X向重复定位精度为36.3 nm，Y向为41.7 nm；调节过程中，角度偏移小于0.5″。实验结果表明，所提柔性调节机构能够满足光刻投影物镜像质补偿对X-Y向高精度调节要求。

光子集成回路和光子芯片具有低功耗、高速率、大带宽等优势，是下一代光信息处理系统的必然趋势，而片上光源是其中的关键技术。设计了一种基于光学微环谐振腔的光学泵浦激光器，泵浦光与激光通过全光控制输出到不同的波导上。结合四能级-二电子能级模型和时域有限差分法进行电磁场仿真，分析了激光输出和粒子态密度的时域特性及稳态电磁场模式分布，约94 ps后达到稳态粒子数密度反转布居，1064 nm泵浦光和1550 nm激光分别通过上话路的Through端口和下话路的Add端口输出。

高速高精度的几何校正是构建投影显示系统的关键环节, 对于由大量投影机组成的全景显示系统来说显得尤为重要。针对此, 提出了基于鱼眼相机的几何校正方法并给出了理论推导。该方法首先对鱼眼相机进行标定, 然后通过拍摄投影到显示墙的结构光特征条纹构建投影机与相机间的亚像素级映射关系, 进而计算出每个投影通道的几何校正数据。实验结果表明: 所提方法可为大规模全景显示系统提供高速高精度的解决方案, 具有很好的实际应用价值。

为适应现代制造业产品快速更新的市场竞争需要,实现板料的快速高效、低成本的生产要求,根据激光冲击成形的原理、特点,在STL模型的分层处理技术的基础上,提出了一种新的算法,从而完成了激光冲击过程中激光头的运动轨迹的自动生成.这项技术解决了激光冲击成形的连续加工问题.计算机仿真结果表明,对于一般简单形状的板料加工,成形尺寸基本满足要求.用该方法进行冲击轨迹的获得尚在研究与开发阶段.