1 郑州大学工程力学系, 河南 郑州 450052
2 中国科学院安徽光学精密机械研究所, 安徽 合肥 230031
3 郑州大学物理工程学院, 河南 郑州 450052
报道了一种碳氮薄膜材料的拉曼光谱,该光谱明显具有两个特征拉曼峰,和已有的碳基薄膜及碳氢薄膜相区别,其峰值位置分别位于1400cm~(-1)及1370cm~(-1)。根据X射线衍射(XRD)分析和扫描电子显微镜(SEM)对该薄膜的形貌观察,初步认定该薄膜是由纳米级含氮弯曲层状石墨结构组成。拉曼峰1400cm~(-1)对应与弯曲面内C-C振动,拉曼峰1370cm cm~(-1)对应于长程无序而形成的D-线。该碳氮薄膜样品是采用微波等离子体化学气相沉积方法(MPCVD)制备而成。
光谱学 拉曼光谱 碳氮薄膜 碳基薄膜 化学气相沉积
1 郑州大学工学院, 河南 郑州 450052
2 郑州大学物理工程学院, 河南 郑州 450052
以聚酰亚胺薄膜为靶子,用高电导硅作为衬底,KrF准分子激光器作为辐射光源,利用脉冲激光沉积技术制备出了类石墨薄膜,并以该薄膜为阴极对其进行了场致电子发射特性测试。当阴阳极之间产生放电即发生电形成过程之后,该薄膜的阈值电场从最初的16.9V/μm降到10.8V/μm。当电场为20V/μm时,薄膜场发射的电流密度达到了0.4mA/cm2,发射点密度达到10~3/cm2利用XPS,Raman光谱及扫描电子显微镜对该薄膜的微结构进行了测试分析。
薄膜物理学 类石墨薄膜 脉冲激光沉积 场致电子发射
1 郑州大学,工程力学系,河南,郑州,450052
2 中国科学院安徽光学精密机械研究所,安徽,合肥,230031
3 郑州大学,物理工程学院,河南,郑州,450052
利用脉冲激光沉积(PLD)技术在镀钛的陶瓷衬底上制备出了非晶态氮化硼薄膜,借助于X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)及Raman光谱分析了该薄膜的结构,并研究了薄膜场致电子发射特性,阈值电场为4.6 V/μm,当电场为9 V/μm时,电流密度为50 μA/cm2.
氮化硼薄膜 脉冲激光沉积 场致电子发射
1 郑州工业大学数理系 郑州 450002
2 郑州大学物理工程学院 郑州 450052
3 中国科学院安徽光机所 合肥 230031
利用KrF准分子激光器及聚酰亚胺靶在硅衬底上沉积出了类石墨薄膜。借助于X射线光电子谱及Raman光谱手段对薄膜微结构进行了分析。并用该薄膜作阴极，研究了其场发射特性。实验结果显示出该薄膜具有较好的场电子发射性能，发射点密度高达1×105/cm2以上。有可能作为一种新型的冷阴极电子源。
类石墨薄膜 脉冲激光沉积 场电子发射
1 郑州大学物理系, 郑州 450052
2 郑州工学院, 郑州 450002
非晶态有机聚合物薄膜具有低介电常数，高强度等优良物理特性，在微电子工业领域有着潜在的应用价值而引起人们极大兴趣，本文就其沉积方法及沉积机制进行简要综述，并展望了其应用前景。
有机聚合物 脉冲激光沉积
