张良乐 1,2韩晓泉 1,2谢婉露 1,2吴晓斌 1,2,*[ ... ]王魁波 1,2
作者单位
摘要
1 中国科学院微电子研究所光电技术研发中心,北京 100029
2 中国科学院大学,北京 100049
基于使用气体放电等离子体(DPP)极紫外(EUV)光源自研的小型反射率测试装置,分析了DPP光源参数及不同型号探测器对反射率测试的影响,提出了一种能量归一化的反射率测试方法,并测试了13.5 nm波长下Mo/Si多层膜反射镜的反射率特性。研究结果表明:在相同光源参数下,SXUV100型探测器的极紫外能量探测性能优于AXUV100G型;通过归一化使光能量波动对反射率测试光束的影响因子从6.2%降低到0.64%,多层膜反射镜的峰值反射率的测量重复性从4.34%提高到0.69%,与国外同等实验装置精度相当,实现了高精度反射率测试,可为极紫外光刻机的光学元件提供反射率测试。
极紫外 气体放电等离子体光源 反射率 能量探测 归一化 
中国激光
2024, 51(7): 0701015
作者单位
摘要
1 哈尔滨工业大学可调谐激光技术国家级重点实验室, 黑龙江 哈尔滨 150080
2 东北林业大学理学院, 黑龙江 哈尔滨 150040
搭建了极紫外光源实验装置,获得了中心波长为13.5 nm的Xe等离子体极紫外的辐射光谱。测量了极紫外辐射的时间特性,用多次箍缩理论解释了光脉冲的多峰结构。获得了主脉冲电流幅值、Xe气流量、陶瓷管内径、等离子体长度、辅助气体等实验参数对极紫外辐射强度的影响规律。搭建了重复频率为1 kHz的13.5 nm极紫外光源样机,介绍了样机的电源系统、放电系统、去碎屑系统和光收集系统的基本情况,并给出了光源样机的调试结果。
X射线光学 极紫外光源 放电等离子体 极紫外光刻 
中国激光
2018, 45(11): 1100001
作者单位
摘要
1 东北林业大学理学院, 黑龙江 哈尔滨 150040
2 哈尔滨工业大学可调谐激光技术国家级重点实验室, 黑龙江 哈尔滨 150001
等离子体状态是决定极紫外光源功率和转换效率的最重要因素之一, 理论和实验研究上Xe气流量对放电等离子体极紫外光源辐射谱和等离子体状态的影响, 对于优化光源工作条件具有重要的意义。 理论上, 采用碰撞-辐射模型, 模拟了非局部热力学平衡条件下, 不同电离度的离子丰度分布随电子温度和离子密度的变化。 推导了Xe8+~Xe11+离子4d-5p跃迁谱线强度随电子温度的变化趋势。 实验上, 采用毛细管放电机制, 利用罗兰圆谱仪测量和分析了不同等离子体密度条件下, 放电等离子体极紫外光谱的变化, 分析了Xe气流量对等离子体状态的影响。 理论和实验结果表明: 相同的电流条件下, 等离子体箍缩时的平均电子温度随着Xe气流量的增加而降低。 对于4d-5p跃迁, 低电离度离子与高电离度离子谱线强度的比值随着温度的增加而减少。 电流28 kA、 Xe气流量0.4 sccm(cm3·min-1)时, 等离子体Z 箍缩平均电子温度位于29 eV附近。 Xe气流量增加时, 受离子密度和最佳电子温度的影响, 实现Xe10+离子4d-5p跃迁13.5 nm(2%带宽)辐射谱线强度最优化的Xe气流量位于0.3~0.4 sccm之间。
放电等离子体 极紫外辐射 毛细管放电 极紫外光源 Discharge produced plasma EUV emission Capillary discharge EUV source 
光谱学与光谱分析
2017, 37(8): 2560
Author Affiliations
Abstract
ENEA, FSN-Fusion Physics Division-Radiation Sources, Antennas, and Diagnostics Laboratory, Frascati, Italy
A discharge-produced-plasma (DPP) source emitting in the extreme ultraviolet (EUV) spectral region is running at the ENEA Frascati Research Centre. The plasma is generated in low-pressure xenon gas and efficiently emits 100-ns duration radiation pulses in the 10–20-nm wavelength range, with an energy of 20 mJ=shot=sr at a 10-Hz repetition rate. The complex discharge evolution is constantly examined and controlled with electrical measurements, while a nsgated CCD camera allowed observation of the discharge development in the visible, detection of time-resolved plasmacolumn pinching, and optimization of the pre-ionization timing. Accurately calibrated Zr-filtered PIN diodes are used to monitor the temporal behaviour and energy emission of the EUV pulses, while the calibration of a dosimetric film allows quantitative imaging of the emitted radiation. This comprehensive plasma diagnostics has demonstrated its effectiveness in suitably adjusting the source configuration for several applications, such as exposures of photonic materials and innovative photoresists.
discharge produced plasma discharge produced plasma EUV EUV extreme ultraviolet extreme ultraviolet plasma diagnostics plasma diagnostics xenon plasma xenon plasma 
High Power Laser Science and Engineering
2015, 3(4): 04000001
作者单位
摘要
1 哈尔滨工业大学 电气工程系,哈尔滨 150001
2 哈尔滨工业大学 可调谐激光技术国家级重点实验室,哈尔滨 150001
3 中国工程物理研究院 流体物理研究所,四川 绵阳 621000
描述了 Z箍缩放电等离子体极紫外光源系统中的主脉冲电源,给出了主电路拓扑结构,重点介绍了三级磁脉冲压缩网络,给出了关键参数的设计计算,并且介绍了新颖的末级磁脉冲压缩放电结构。实验结果显示:各级磁脉冲压缩效果达到设计指标,电源输出电压峰达30 kV,输出电流峰值大于40 kA,电流脉冲宽度200 ns,满足Z箍缩放电等离子极紫外光源对主脉冲的要求。
Z箍缩 放电等离子体 极紫外光源 主脉冲 磁脉冲压缩 Z-pinch discharge produced plasma extreme ultraviolet source main pulse magnetic pulse compression 
强激光与粒子束
2010, 22(2): 388

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