现有传统TFT-LCD 生产工艺中，Rubbing工艺在生产高PPI ADS产品的过程中，在改善Rubbing Mura不良时会使用H Cloth，但使用H Cloth Glass在经过Rubbing后ODF Rubbing Cleaner清洗时会出现白Mura不良。经过对白Mura不良Panel的微观解析，并结合H Cloth性质分析出白Mura不良是由于H Cloth自身的聚醋酸脂颗粒经过Rubbing Cleaner聚集造成的。从Rubbing Cleaner清洗时改变Glass表面性质(醇类可以有效改变界面性质)入手，通过使用IPA对Glass进行清洗以改变聚醋酸脂疏水性，使得聚醋酸脂颗粒更易被Rubbing Cleaner清洗掉来改善白Mura不良，并结合生产实际定期对IPA进行更换以保持IPA浓度处于一个稳定的区间，使得高PPI ADS产品白Mura不良发生率由改善前的3.42%降低至改善后的0.11%，白Mura不良得到非常有效的改善。

为了实现TFT LCD高PPI产品的高分辨率，高开口率，低功耗全面提升，分析了不同因素的影响程度，加强了对取向膜印刷品质的管控。同时对涉及该过程相关因素进行研究分析。对取向膜画面品质相关的产线印刷和干燥条件、APR版制作工艺、取向膜膜厚变化、APR版线数开口率进行优化测试，找到了可以提高取向膜画面品质的方法。实验结果表明: 通过对取向膜印刷和干燥条件优化，确定了TN产品画面品质提升的产线管控方案; 在APR版制作过程中引用扩散保护膜，ADS产品Particle类不良降低2%，Scratch类不良降低1%; 对取向膜膜厚提升，ADS产品的段差和残像得到改善，对比度提升30~120，Zara Particle不良降低30%; 通过对APR版的网点，开口率优化: 400L，30%，普通曝光的APR版更新为600L，20%，高PPI有机膜类产品的Sand Mura发生率降低为0%。可以满足高PPI产品对取向膜印刷稳定的管控要求，适应高分辨率、高开口率、低功耗等要求。

为了满足市场对显示产品高分辨率的要求,需要从产品的设计和工艺各个方面进行优化,其中过孔尺寸和线宽两个因素对阵列基板分辨率影响最大,本文通过相移掩模技术可以实现对过孔尺寸的精确控制,通过在普通过孔上增加一定厚度和透过率的相移层,并对各种参数下过孔的光透过率进行模拟分析,可以获得不同相移层参数对过孔特性的影响,最后提出一种可以获得稳定微小过孔的方法.结果表明,通过对相移层透过率和宽度的控制,可以获得对曝光光强不敏感的稳定微小过孔,曝光量增大一倍乃至数倍的过程中,过孔尺寸始终保持稳定,提高了工艺容忍度.对于模拟中过孔尺寸可以小于设备的4 μm分辨极限.通过减小过孔尺寸,可以有效提升TFT显示产品的开口率,实现产品对高分辨率的要求.