1 中国石油大学（华东）信息与控制工程学院, 山东 青岛 266580
2 林茨大学实验物理研究所原子与表面科学系, 奥地利 林茨 A-4040
3 天津大学精密测试技术及仪器国家重点实验室, 天津 300072
设计了一套具有一定实用意义和科学价值的薄膜生长荧光显微图像实时采集与分析系统，可以实现透明衬底上有机荧光分子薄膜生长的实时原位监测。进一步阐明了系统的硬件构筑思路和软件设计架构，并依据薄膜的形貌特征，给出8个主要生长信息参数及其求取算法，并利用自行搭建的实验系统，针对联六苯(p-6P)分子在云母衬底上的纳米纤维生长过程，得出了其准一维的线性生长规律。该系统作为重要的薄膜生长成像监测技术，有望在薄膜与衬底表面相互作用和衬底微区结构特性研究等方面起到积极的作用。
薄膜 荧光显微术 成像系统 图像处理 薄膜生长参量
复旦大学 微电子学系ASIC与系统国家重点实验室，上海200433
原子层淀积(ALD)是一种先进的纳米级薄膜生长技术，在微电子和光电子领域有着广泛的应用前景，尤其在提高太阳电池的光电转换效率方面正发挥越来越大的作用，很可能成为下一代太阳电池工艺中的重要方法。文章综述了近年来ALD技术在太阳电池领域的应用研究进展，详细介绍了ALD技术应用在不同类型太阳电池的最新研究成果和存在的问题，并对其发展趋势进行了展望。
太阳电池 原子层淀积 薄膜生长 solar cells atomic layer deposition thin film growth
同济大学 精密光学工程技术研究所,上海 200092
利用动力学晶格蒙特卡洛方法模拟了Cu薄膜在Cu(100)面上的三维生长过程.模型中考虑了四个动力学过程:原子沉积、增原子迁移、双原子迁移和台阶边缘原子迁移,各动力学过程发生的概率由多体势函数确定.讨论了基底温度、沉积速率及原子覆盖率对Cu原子迁移、成核和表面岛生长等微观生长机制的影响;获得了Cu薄膜的表面形貌图并计算了表面粗糙度.模拟结果表明,随基底温度升高或沉积速率下降,岛的平均尺寸增大,数目减少,形状更加规则.低温时,Cu薄膜表现为分形的离散生长,高温时,Cu原子迁移能力增强形成密集的岛.Cu薄膜表面粗糙度随着基底温度的升高而迅速减小;当基底温度低于某一临界温度时,表面粗糙度随原子覆盖率或沉积速率的增大而增大;当基底温度超过临界温度时,表面粗糙度随原子覆盖率或沉积速率的变化很小,基本趋于稳定.
薄膜生长 原子迁移 KLMC模拟 沉积速率 基底温度 原子覆盖率 表面粗糙度 Thin film growth Surface diffusion KLMC simulation Deposition rate Substrate temperature Atom coverage Surface roughness
