时间分辨的泵浦探测技术是研究光学元件损伤动态过程的有力手段。基于增强电荷耦合器件（ICCD）的时间分辨泵浦探测技术，对比研究了1064 nm纳秒激光辐照下HfO₂/SiO₂增透膜膜面处于激光入射面（正向过程）和出射面（反向过程）两种情况下的动态损伤过程。在同一能量密度（52 J/cm²）激光辐照下，正向和反向过程都产生了无膜层剥落的小坑损伤以及伴随膜层剥落的小坑损伤，但反向过程产生的小坑的横向尺寸和深度都比正向的大。有限元分析结果表明正向和反向过程中增透膜内部的基底-膜层界面场强相似，但实际损伤形貌尺寸以及依据冲击波传播速度计算得到的爆炸能量都表明反向过程沉积的能量更大，可见等离子体形成后在后续激光脉冲辐照下的发展过程决定了两种情况下的损伤差异。增透膜损伤的时间分辨研究对其损伤机制分析以及实际应用具有重要意义。

采用原子层沉积(ALD)技术在石英管表面制备了薄膜,研究了该薄膜的均匀性,以及石英管的内径、外径、长度对沉积薄膜均匀性的影响。以单波长减反射膜为研究对象,实验测试的反射光谱与仿真结果一致,石英管表面最低反射率可降至0.17%。忽略夹具影响,石英管外壁与内壁的减反射薄膜的非均匀性基本一致,在±1.69%范围内,内外壁表面减反射薄膜的厚度和中心波长相同,且石英管尺寸对内外壁薄膜均匀性无明显影响。利用ALD技术可在大曲率元件的内外表面沉积厚度偏差小且均匀性分布相似的减反射薄膜。

常用的硫化锌衬底增透膜系存在硬度低，保护效果差等问题，难以满足在恶劣环境使用的要求。在真空中用准分子激光制备了高红外透射率、高硬度的类金刚石(DLC)膜，与其他常见的红外薄膜材料共同组成DLC复合增透保护膜系。优化了纯DLC膜的工艺与性能。将锗片固定在石墨靶材表面组成复合石墨靶材，采用准分子激光聚焦烧蚀真空中的复合靶材，沉积出无氢掺锗DLC膜。发现硅、锗衬底上纯DLC膜少量掺锗后，DLC膜的SP3键含量提高，但透射率略微降低，内应力有所增加。因此，复合膜系中选用纯DLC膜，通过优化黏附层结构及DLC膜厚度等方法，得到了性能明显提高的DLC复合增透保护膜系。该膜系具有远红外波段透射率高、牢固性好和耐划伤等优点，并通过了水煮实验、军标胶带和摩擦实验。

为了得到一种结构简单、便于制作的可应用于可见光波段的减反射膜，利用等效介质理论研究了表面具有矩形刻槽周期分布形式的介质膜的减反射特性，比较了4种不同基底材料的减反特性，选用聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)作为基底分析了一维单层矩形光栅结构的减反射膜的占空比、蚀刻深度、入射波长和入射角度对减反射特性的影响; 给出了可见光波段的减反射膜的结构设计参数。研究结果表明: 当入射角小于30°时，可见光中的短波段(0.4 μm～0.55 μm)反射率低于2%; 当入射角小于10°时，该减反射膜可以使0.4 μm～0.8 μm可见光的反射率低于2%。

在硫化锌、硒化锌两种基底上开展了激光/中波红外、激光/长波红外双波段减反射膜技术研究。通过采用离子辅助沉积以及镀保护膜层等方法，对膜系结构和镀制工艺进行了优化。研制的激光/红外双波段减反射膜不仅具有良好的光学性能，而且具有较强的抗恶劣环境能力，可以满足实际使用要求。

在4H-SiC基底上设计并制备了Al2O3/SiO2紫外双层减反射膜, 通过扫描电镜(SEM)和实测反射率谱来验证理论设计的正确性。利用编程计算得到Al2O3和SiO2的最优物理膜厚分别为42.0 nm和96.1 nm以及参考波长λ=280 nm处最小反射率为0.09％。由误差分析可知, 实际镀膜时保持双层膜厚度之和与理论值一致有利于降低膜系反射率。实验中应当准确控制SiO2折射率并使Al2O3折射率接近1.715。用电子束蒸发法在4H-SiC基底上淀积Al2O3/SiO2双层膜, 厚度分别为42 nm和96 nm。SEM截面图表明淀积的薄膜和基底间具有较强的附着力。实测反射率极小值为0.33％, 对应λ=276 nm, 与理论结果吻合较好。与传统SiO2单层膜相比, Al2O3/SiO2双层膜具有反射率小, 波长选择性好等优点, 从而论证了其在4H-SiC基紫外光电器件减反射膜上具有较好的应用前景。

外层为氟化物的红外高效膜、膜层软、易吸潮和氧化.本文提出使用类金刚石膜做红外高效膜的保护膜,讨论了镀制类金刚石膜后,镀膜件光谱特性的变化情况.