为实现光学元件磁流变高精度加工,基于脉冲迭代原理,提出基于粒子群算法的驻留时间优化方法。该方法在脉冲迭代法的基础上引入粒子群算法对整体面型残差进行优化,通过对整体驻留时间的判定,从而实现每个驻留时间点的最优选择,达到高精度面形加工。通过对Φ156 mm光学表面仿真加工,均方根(RMS)值和峰谷(PV)值从初始的169.164和1 161.69 nm收敛到23.492 5和807.215 6 nm。仿真结果表明,该算法能在保证面形收敛精度的同时快速获得稳定可靠的驻留时间分布,能有效降低中频误差,其算法性能优于常用的脉冲迭代法。该算法为磁流变抛光光学元件过程中的驻留时间计算提供了一种解决方案。

兼具表面低红外发射率和隔热性能的功能纺织材料在工业及**领域有着广泛用途。从利用低表面发射率和控制物体表面温度两方面，研究制备具有低红外发射率且隔热性能良好的功能材料。选用聚丙烯酸酯（PA）作为成膜粘结物质，研究了铝粉的粒径及用量对涂层红外发射率的影响；以不同的空心微珠为隔热填充剂，并对其用于涂层织物的隔热效果进行探究。最后，将低发射率涂层与隔热涂层进行复合，制备出兼具低发射率与隔热性能的材料。结果表明，采用400目片状铝粉时的发射率比采用600目时更低，20%的400目片状铝粉的涂层胶所制备的涂层表面的红外发射率低至0237。由于空心微珠是较好的隔热填料，以共混15%的玻璃微珠为隔热层，以共混20%的400目片状铝粉为低红外发射率涂层，所制备的纤维基复合涂层材料的发射率为0507，热体试样与背景温差为375℃，具有较好的隔热性能和低红外发射率。

为了提升单晶碳化硅(SiC)材料的抛光效率及表面质量,提出了将传统抛光与磁流变抛光(MRF)相结合的新方法,并对一块直径为100 mm的单晶SiC晶圆进行实际加工。首先,采用环抛技术将单晶SiC晶圆表面粗糙度快速加工至0.6 nm左右;然后,通过配制特殊的磁流变抛光液,采用磁流变抛光技术对晶圆进行35 min快速均匀抛光,改善了SiC晶圆表面的缺陷,消除了晶圆亚表面损伤;最后,采用纳米金刚石抛光液,通过环抛对SiC晶圆进行精抛光,获得了粗糙度为0.327 nm的高表面质量单晶SiC晶圆。该方法将单晶SiC晶圆的加工时间缩短了约7 h,有利于提升SiC晶圆的加工效率、精度及质量。

Total reflection x-ray fluorescence analysis is applied to trace element detection in liquid for effective environmental monitoring. This analytical approach requires x-ray total reflection mirrors. In order to achieve high sensitivity element detection, the mirrors require high surface quality for high x-ray reflectivity. Surface finishing for x-ray mirrors is typically conducted through a series of abrasive processes, such as grinding and polishing, and is thus time consuming. The purpose of this study is to streamline and enhance the surface finishing process based on unique high quality grinding techniques for the production of x-ray total reflection mirrors.