针对BK7光学玻璃材料去除率和抛光质量不断提高的需求, 提出通过减少磁性复合流体(MCF)抛光液颗粒的团聚、提高MCF分散性, 配制性能优良的抛光液, 提高BK7光学玻璃的MCF抛光性能.MCF中添加不同质量分数的高分子类分散剂聚乙烯醇(PVA), 采用激光粒度分布仪测试MCF抛光液中颗粒的粒径分布和中位粒径, 探究不同PVA浓度的抛光液对BK7光学玻璃抛光性能的影响.试验结果表明：当PVA质量分数为3%时, 中位粒径达到最小值5.854 μm, MCF的分散性最好, 对光学玻璃的抛光性能大幅提高, 当PVA质量分数为5%时, 经MCF抛光10 min后材料去除率达到最大值26.4×10－4g/min, 表面粗糙度达到最小值8.23 nm. MCF中添加适量PVA能够减少抛光液颗粒的团聚, 提高MCF的分散性, 提升BK7光学玻璃的磁性复合流体抛光性能.

简述了国内外磁流变抛光技术的研究历史和现状。介绍了磁流变抛光技术的抛光原理、特性及优点。着重阐述了长春光学精密机械与物理研究所近几年来在磁流变抛光技术研究方面的最新进展，解决了磁流变抛光的若干关键技术，主要包括：研制出一种新型磁流变抛光液，这种磁流变抛光液具有优良的流变性和较高的抛光效率；研究出一种基于矩阵代数运算模型的磁流变抛光驻留时间求解算法；为了增加去除函数(抛光区)面积、提高材料去除效率，研制出适合大口径非球面反射镜加工的带式磁流变抛光机。

磁流变液是一种分散体系，通过对分散体系稳定性的研究，并结合磁流变抛光的实际需求，确定了磁流变抛光液添加组分，配制出了适合于光学加工的水基磁流变抛光液。所配制的磁流变液初始粘度仅为0.2 Pa·s，利用磁流变仪检测所配制磁流变液在剪切率为1 s-1，磁场强度为0.35 T时，剪切应力达42.5 kPa。利用所配制的磁流变抛光液分别对K9玻璃和Si材料进行抛光，经过2 h持续抛光，K9玻璃和Si材料去除函数的峰值去除量相对变化率分别为0.15%和0.22%，体积去除量相对变化率分别为1%和0.88%，去除函数的峰值去除率分别达到4.83 μm/min和1.376 μm/min。结果验证了所配制的抛光液具有极好的稳定性以及较高的去除效率，能够保证抛光材料的快速去除和高效收敛。

整流罩在高速飞行中既要对空气进行整流，同时又起光学窗口的作用。蓝宝石材料硬度高，加工非常困难。分别从精磨模、精磨磨料、抛光膜层、抛光辅料、机床速度和压力等方面介绍了一种加工蓝宝石整流罩的工艺方法。