文章以Al₂O₃/PMMA交叠薄膜为例，在其交叠界面处引入波浪形结构，通过增加Al₂O₃在弯曲方向的实际长度改善其力学性能。采用有限元仿真方法对Al₂O₃/PMMA交叠薄膜结构进行建模，分别研究了波浪形结构形貌、周期、深度和PMMA厚度等参数对交叠薄膜弯曲性能的影响规律。仿真结果表明，波浪形界面结构能较大提高交叠薄膜的弯曲性能，当波浪形结构的周期在500~1 500 nm，深度在600~1 600 nm范围内，PMMA厚度为6 μm时，交叠薄膜具有较好的弯曲性能，相比于没有引入界面结构的交叠薄膜，同等条件下产生的最大应力下降了超过70%，有效提升了封装薄膜的弯曲性能，对后续无机/有机交叠薄膜的制备工艺具有指导意义。

有机电致发光器件（Organic light emitting diode，OLED）具有轻薄、便于携带、自发光、能耗低、亮度更大、柔性显示等特点，可以增加显示产品的附加值，因此被科学和产业界广泛关注。然而，OLED器件中的有机材料对空气中的水汽和氧气十分敏感，若器件在无封装保护的情况下长期在空气中存放，将会严重影响OLED的工作性能和寿命。除了选择合适的传输层材料、表面层结构和利用界面工程提高材料水氧耐受能力之外，对器件进行可靠的封装是隔绝空气中水汽和氧气侵蚀的一种有效手段。原子层沉积（Atomic layer deposition，ALD）是一种已经在实验室验证的有效薄膜沉积封装技术，由于ALD的自限制反应特性，可以在低温下沉积出厚度精确可控且均匀致密的薄膜，利用ALD沉积的薄膜往往拥有良好的机械柔性、超高的阻隔性能和光学透过率。本文将回顾原子层沉积技术的原理，分析ALD制备薄膜的水汽透过率，比较ALD在单层、有机‐无机叠层薄膜封装制备上的技术优势。