作者单位
摘要
太原科技大学应用科学学院, 太原 030024
运用AFORS-HET软件对TCO/β-FeSi2(n)/a-Si(i)/c-Si(p)/μc-Si(p+)型太阳能电池各层结构之间的能带匹配进行了模拟。模拟结果表明,透明导电氧化膜与n型层间的能带匹配对太阳能电池的转化效率、开路电压和填充因子有较大影响,可以通过能带匹配有效地提高太阳能电池的转化效率。导带补偿会阻碍少数载流子的输运,界面态会加快少数载流子在界面的复合,降低导带失配,从而有利于提高太阳能电池的转化效率。衬底与背场的界面电场可以提高太阳能电池的转化效率。
功函数 能带失配 界面态 转化效率 β-FeSi2 β-FeSi2 AFORS-HET AFORS-HET work function band mismatching interface state conversion efficiency 
红外
2017, 38(3): 31
作者单位
摘要
太原科技大学应用科学学院, 山西 太原 030024
运用AFORS-HET软件对β-FeSi2(n)/a-Si(i)/c-Si(p)/μc-Si(p+)HIT型异质结太阳能电池的性能进行了模拟,并对各层参数进行了优化。模拟结果表明,在FeSi2(n)/c-Si(p)结构上加上本征层和背场,能显著地提高电池的性能。加入缺陷并优化各项参数后,电池的最后参数为VOC=647.7 mV, JSC=42.29 mA·cm-2, FF=75.32%, EFF=20.63%, β-FeSi2(n)/c-Si(p)太阳能电池的效率提高了2.3%。
少数载流子 本征层 背场 AFORS-HET afors-het β-FeSi2 β-FeSi2 minority carrier intrinsic layer BSF 
红外
2016, 37(5): 38
作者单位
摘要
新疆师范大学物理与电子工程学院新疆矿物发光材料及其微结构实验室, 新疆 乌鲁木齐 830054
为了增强β-FeSi2 薄膜的发光强度,通过脉冲激光轰击(PLD)β-FeSi2和Si靶材沉积于Si(1 1 1)面制备了优质的β-FeSi2/Si薄膜,薄膜表面光滑、平整,β-FeSi2颗粒尺寸在20~50 nm左右。光致发光(PL)测试显示,β-FeSi2/Si薄膜在低温下(20 K)在1540 nm 左右的近红外处有一较强发光峰,对应b-FeSi2带-带跃迁。对Si 层进行掺杂Er3+处理,发现处理后的β-FeSi2/Si∶Er 薄膜发光强度得到明显地增强,掺入Er 使β-FeSi2/Si 薄膜非辐射复合中心得到有效地抑制,且β-FeSi2/Si:Er 薄膜的红外发光来自Er3+离子的4I13/2→4I15/2的跃迁和β-FeSi2纳米颗粒带带复合的发光叠加。
薄膜 β-FeSi2/Si 薄膜 光致发光 
激光与光电子学进展
2015, 52(8): 083101
张春红 1,2,*张忠政 2,3邓永荣 2,3闫万珺 2,3[ ... ]郭本华 2,3
作者单位
摘要
1 安顺学院数理学院, 贵州 安顺 561000
2 安顺学院航空电子电气与信息网络工程中心, 贵州 安顺 561000
3 安顺学院电子与信息工程学院, 贵州 安顺 561000
基于第一性原理赝势平面波方法,对稀土(Y、Ce)掺杂β-FeSi2的几何结构、电子结构和光学性质进行了计算与分析。几何结构的计算表明,Y 或Ce掺杂后β-FeSi2的晶格常数改变,晶胞体积减小。电子结构的计算表明,掺入稀土后β-FeSi2 费米面附近的能带结构变得复杂,带隙变窄;总电子态密度发生了变化,Y 的4d 轨道电子态密度和Ce的4f轨道电子态密度主要贡献给费米面附近。光学性质的计算结果表明,Y 或Ce 掺杂后β-FeSi2 的静态介电常数明显提高,介电函数虚部ε2 的峰值均向低能方向移动并且减弱,折射率n0 明显提高,消光系数k 的峰值减弱,计算结果为β-FeSi2材料掺杂稀土改性的实验研究提供了理论依据。
材料 电子结构 光学性质 掺杂 第一性原理 
光学学报
2015, 35(1): 0116001
张春红 1,2,*张忠政 2,3闫万珺 2,3周士芸 2,3[ ... ]郭本华 2,3
作者单位
摘要
1 安顺学院数理学院, 贵州 安顺 561000
2 安顺学院航空电子电气与信息网络工程中心, 贵州 安顺 561000
3 安顺学院电子与信息工程学院, 贵州 安顺 561000
基于密度泛函理论(DFT)框架下的第一性原理赝势平面波方法,对锕(Ac)掺杂β-FeSi2的几何结构,电子结构和光学性质进行了计算与分析。几何结构的计算表明:Ac掺杂后β-FeSi2晶格常数a、b及c都有所变化,晶胞体积增大。电子结构的计算表明:Ac掺入后导致费米面进入导带,能带结构仍为准直接带隙,但是带隙明显变窄;费米能级附近,总电子态密度主要由Fe的3d层和Si的3p层电子态密度决定,Ac的6d层电子态密度贡献很小。光学性质的计算表明:静态介电常数ε1(0)明显提高,介电函数的虚部ε2的峰值向低能方向移动并且减弱,折射率n0明显提高,消光系数k向低能方向有一微小的偏移,吸收峰增强,平均反射效应变化不大,计算结果为β-FeSi2材料掺杂改性的实验研究提供了理论依据。
材料 电子结构 光学性质 掺杂 第一性原理 
光学学报
2014, 34(11): 1116002
作者单位
摘要
1 安顺学院 物理与电子科学系, 贵州 安顺 561000
2 贵州大学理学院新型光电子材料与技术研究所, 贵州 贵阳 550025
采用第一性原理赝势平面波方法对应力调制下β-FeSi2的电子结构及光学性质进行了计算,全面分析了应力对β-FeSi2能带结构、电子态密度和光学性质的影响。在各向同性应力的作用下,压缩晶格使β-FeSi2的导带向高能区漂移,带隙变宽,拉伸晶格使导带向低能区漂移,带隙变窄,且当拉伸应力增加到-25 GPa时,费米能级穿过了价带和导带,β-FeSi2由半导体变成了导体;压缩晶格会使各光学参数发生蓝移,增大β-FeSi2的吸收系数和光电导率,降低反射率,而拉伸晶格会导致红移,增大静态介电常数,折射率n0和反射率,降低吸收系数。 施加应力可以调节β-FeSi2的电子结构和光学性质,是改变和控制β-FeSi2的光电传输性能的有效手段。
材料 电子结构 光学性质 应力 第一性原理 
光学学报
2013, 33(7): 0716001
作者单位
摘要
浙江师范大学 材料物理系, 浙江 金华 321004
采用磁控溅射的方法在Si衬底上生长Fe/Si多层膜, 退火后形成了硅化物薄膜。利用X射线衍射(XRD)、Raman光谱、原子力显微镜(AFM)研究了Fe/Si膜厚比和退火温度对薄膜结构特性的影响。研究表明, 当Fe/Si膜厚比为1/2, 预先在衬底上沉积Fe缓冲层, 退火温度为750℃, 形成的硅化物为β-FeSi2, 晶粒的平均尺寸大约为50nm, 且分布得比较均匀。如果Fe/Si厚度比为1/1或3/10时, 形成的硅化物为ε-FeSi。随着退火温度的升高, Fe/Si之间的相互扩散逐渐增强, 当退火温度为1000℃时, 形成了富硅的二硅化物的高温相α-FeSi2。
磁控溅射 膜厚比 magnetron sputtering β-FeSi2 β-FeSi2 film thickness ratio 
半导体光电
2012, 33(6): 846
闫万珺 1,2周士芸 1,*谢泉 2桂放 1[ ... ]郭笑天 1
作者单位
摘要
1 安顺学院物理与电子科学系, 贵州 安顺 561000
2 贵州大学理学院新型光电子材料与技术研究所, 贵州 贵阳 550025
采用基于密度泛函理论的第一性原理赝势平面波方法,对不同Co含量的β-FeSi2的能带结构,态密度、分态密度和光学性质进行了计算和比较。几何结构和电子结构的计算结果表明,Co掺杂使得β-FeSi2的晶格常数a增大,b和c变化不大,晶格体积增大。Fe1-xCoxSi2的能带结构变为直接带隙,禁带宽度从0.74 eV减小到0.07 eV,Co的掺入削弱了Fe的3d态电子,但费米能级附近的电子态密度仍主要由Fe的3d态电子贡献。此外,Co掺杂导致β-FeSi2的晶格体积增大,这对掺杂后β-FeSi2的带隙变窄起到一定的调制作用。光学性质的计算表明,Co掺入后介电函数虚部ε2(ω)向低能方向偏移,且光学跃迁强度明显减弱,吸收边发生了红移,光学带隙随Co含量增加而减小。计算结果为β-FeSi2光电材料的设计和应用提供了理论依据。
材料 电子结构 光学性质 掺杂 第一性原理 
光学学报
2011, 31(6): 0616003
作者单位
摘要
南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津 300071
环境友好半导体薄膜材料β-FeSi2 具有0.85 eV的直接带隙结构、吸收系数大、对太阳光谱利用范围宽、原材料丰富、稳定性好等优点,被认为是一种非常有前途的窄带隙光伏材料。介绍了β-FeSi2 薄膜基本结构及其光电特性,分析了国内外关于β-FeSi2 薄膜光伏材料和器件的研究现状,指出了目前该领域研究中存在的问题和发展趋势,给出了在这方面取得的初步研究结果。
薄膜 太阳电池 光伏材料 异质结 
激光与光电子学进展
2009, 46(8): 61
作者单位
摘要
1 华中科技大学激光技术国家重点实验室, 武汉光电国家实验室, 湖北 武汉 430074
2 江汉大学物理与信息工程学院, 湖北 武汉 430056
用FeSi2合金靶作为靶材,采用准分子激光沉积法在Si(111)单晶基片上制备了单相的β-FeSi2薄膜,并将飞秒脉冲激光沉积法(PLD)引入到β-FeSi2薄膜的制备工艺中;用X射线衍射仪(XRD),场扫描电镜(FSEM),能谱仪(EDS),紫外可见光光谱仪研究了薄膜的结构、组分、表面形貌和光学性能。基片温度为500 ℃,采用KrF准分子脉冲激光沉积法可获得单相的β-FeSi2薄膜。衬底温度为550 ℃时,β-FeSi2出现迷津状薄层。采用飞秒脉冲激光法β-FeSi2薄膜的合成温度比准分子脉冲激光沉积法制备温度低50~100 ℃;薄膜的晶粒分布均匀连续,没有微米级的微滴;飞秒脉冲激光沉积效率比准分子激光的高1000倍以上,是一种快速高效的β-FeSi2薄膜沉积技术。
薄膜 脉冲激光沉积法 飞秒激光 
中国激光
2006, 33(9): 1277

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