作者单位
摘要
中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800
为了研究波长为255.3 nm的铜蒸气激光倍频光在亚微米光刻中的可行性,设计了带宽为1 nm的1:1折反射式投影光刻物镜和一个带散射板的光管式均匀照明系统,获得了0.6 μm的光刻分辨率。此结果表明,铜激光倍频光可作为亚微米光刻的照明光源。
远紫外光刻 亚微米光刻 光刻物镜 铜激光倍频光 均匀照明系统 
光学学报
1997, 17(1): 117
作者单位
摘要
中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800
报道用远紫外准分子激光进行亚微米光刻的实验结果。以波长为248.3 nm的KrF准分子激光为光源,以光管均匀器为主构成照明系统,采用带有平行平板为像差校正板的11折反射式投影光刻物镜,在两种光刻胶上分别获得了0.6 μm和0.5 μm的光刻分辨率。
准分子激光 激光光刻 亚微米光刻 光刻物镜 
光学学报
1996, 16(8): 1169
作者单位
摘要
中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800
本文设计了一种新系列的紫外或远紫外激光光刻物镜,它与国内外已有的紫外物镜相比,在365nm以下的光谱区,具有更宽的光谱工作带宽和较高的数值孔径.以宽带准分子激光或短弧汞氙灯做光源,无需另加色散补偿光学元件,可以进行同轴对准.
紫外和远紫外光刻 准分子激光光刻 亚微米光刻 
光学学报
1992, 12(4): 359
作者单位
摘要
中国科学院上海光学精密机械研究所
本文介绍一个数值孔径0.4、视场10×10mm~2可用于1:1分步投影光刻机的镜头的光学设计及其模型实验结果.光学设计在Wynne-Dyson的1:1折反式系统的基础上,对该系统作了某些改变.实验结果表明,该镜头具有亚微米的光刻分辨率.
光学光刻 亚微米光刻 镜头 分辨率 焦深 
光学学报
1988, 8(10): 928

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