CLP Researching 中国光学期刊网 光电汇 爱光学
仪器，测量与计量
连续微光学元件在光刻胶上的面形控制
曾红军 1杜春雷 1王永茹 1白临波 1[ ... ]袁景和 2
作者单位
摘要
1 中国科学院光电所微细加工光学技术国家重点实验室,成都 610209
2 四川大学信息光学研究中心,成都 610064
介绍了连续微光学元件在光刻胶上的面形控制方法。分析了光刻胶及显影液在制作二元和连续元件中所存在的差别;导出具有倒易关系的浮雕深度表达式和适用的范围,并以此指导面形的控制,对光刻胶进行适当的改造以适应连续微光学元件的制作。本文还给出了实验验证,制作出了多种质量优良的连续微光学元件,并对典型元件的面形进行了评价。
连续微光学元件 光刻胶线性 倒易关系 面形控制。 
PDF全文 Full Text
光学学报
2000, 20(5): 691
推荐专家MORE
张杰 王贻芳姜会林潘建伟曹健林范滇元褚君浩周炳琨姜中宏

热点聚焦

MORE
2023中国光学十大进展入选名单
重磅！“2023中国光学十大进展”发布
Nd3+掺杂光纤的高功率900纳米激光
基于类人算法的智能锁模固体激光器
2023中国光学十大进展提名奖名单
倒计时3天！4月20日，免费参加Photonics Insights专场讲座

学术活动

MORE

关于本站 Cookie 的使用提示

中国光学期刊网使用基于 cookie 的技术来更好地为您提供各项服务，点击此处了解我们的隐私策略。 如您需继续使用本网站，请您授权我们使用本地 cookie 来保存部分信息。
全站搜索
您最值得信赖的光电行业旗舰网络服务平台!
快速查询 高级查询
最近搜索：倒易关系  
大家在搜： 人工智能     图像处理     光子 
热门搜索： 机器视觉     光通信     光纤传感器