四川大学物理系信息光学研究中心,成都,610064
提出制作连续微光学元件的一种新技术――液晶实时掩膜技术,阐述了其基本原理和制作方法。基于部分相干光成像理论,采用计算机模拟了用实时掩膜制作微透镜和微轴锥镜阵列的过程。同时建立了实验装置进行实验,用全色银盐干板(Kodak 131)通过酶刻蚀得到口径为118.7 μm,深为1.322 μm的56×48的轴锥镜的列阵。
应用光学 实时掩膜 液晶显示器件 连续微光学元件 光刻
1 中国科学院光电所微细加工光学技术国家重点实验室,成都 610209
2 四川大学信息光学研究中心,成都 610064
介绍了连续微光学元件在光刻胶上的面形控制方法。分析了光刻胶及显影液在制作二元和连续元件中所存在的差别;导出具有倒易关系的浮雕深度表达式和适用的范围,并以此指导面形的控制,对光刻胶进行适当的改造以适应连续微光学元件的制作。本文还给出了实验验证,制作出了多种质量优良的连续微光学元件,并对典型元件的面形进行了评价。
连续微光学元件 光刻胶线性 倒易关系 面形控制。
