通过对TFT-LCD行业用显影液浓度(质量分数)C1和其中酸根离子浓度(质量分数)C2与半色调光刻胶膜厚(Half Tone Thickness, THK)的影响研究, 提出了改善THK波动的方法。首先, 固定光刻工艺生产条件, 采用单因素实验法分别对C1和C2对THK的影响进行试验, 研究表明, C1、C2的变化都会影响显影液的显影能力, 导致THK的变化, 且都呈线性负相关。其次, 根据C1和C2变化对THK的影响程度, 将二者之间建立公式对应关系, 通过系统对C1进行调整, 改善C2波动的影响。最终将关系公式导入系统, 稳定了显影能力, 有效改善了THK的波动, 沟道相关不良发生率从0.20%以上降低到0.03%以下。

在相同的曝光和显影条件下，用D-19和Phenisol两种显影液定性比较了SIOFM-5FW底片、Kodak101-05和Ilford-Q板在100.0 nm以下的软Ｘ射线和XUV波段范围里的曝光特性.比较实验表明，SIOFM-5FW底片对波长大于10.0 nm的辐射的响应介于Kodak101-05和Ilford-Q板之间；对于10.0 nm以下的短波长区，SIOFM-5FW比Kodak101-05灵敏，而且有较高的饱和光密度值和动态范围，但存在明显的碳Ｋ吸收边结构。讨论了所用的两种显影液对底片曝光特性的影响。