强激光与粒子束
2022, 34(4): 049001
1 广州广电计量检测股份有限公司电磁兼容研究所, 广东广州 510656
2 装备发展部军事代表局驻镇江地区军事代表室, 江苏镇江 212000
针对近年来复杂电磁环境中强电磁脉冲攻击, 研究得出设备级强电磁辐照敏感度仿真分析方法。该方法采用 3D电磁场仿真及 2D电路仿真相结合的手段, 通过建立几何模型、定义材料参数、添加负载及激励源、放置监测探头等步骤, 最终仿真得出设备外壳内部及线缆上耦合电流的时域、频域特性。由仿真结果可知, 设备内部及线缆上耦合的电压、电流在极短时间内即可达到具有破坏性的峰值, 且其同时具备较宽的频谱, 从而可对多种电子设备造成毁伤。因此, 当电子设备处在复杂电磁环境强电磁脉冲攻击下, 必须采取一定的强电磁保护措施。本仿真方法也可适用其他通用电子设备强电磁辐照敏感度仿真分析。
复杂电磁环境 强电磁脉冲 电磁场仿真 辐照敏感度 线缆 complex electromagnetic environment highelectromagnetic impulse electromagneticsimulation irradiationsusceptibility cable 太赫兹科学与电子信息学报
2019, 17(6): 1045
1 中国计量大学 计量测试工程学院, 杭州 310018
2 中国计量科学研究院, 北京 100029
设计了一种表面镀有Ag涂层且具有内凹弧度的圆锥形钨(W)针尖, 运用时域有限差分法建立了针尖-球形样品结构的针尖增强喇曼散射模型, 研究了针尖增强效应及参数优化配置.采用波长632.8 nm光源斜入射激励方式, 对模型的针尖增强喇曼散射效应进行电磁场仿真计算, 获得了模型在不同光源入射角度、样品粒径、针尖-样品间距下的增强电场强度和针尖增强喇曼散射增强因子.研究结果表明: 当光源入射角为72°、样品粒径约为140 nm、针尖-样品间距达到2 nm时可产生最大的增强因子, 达到104量级.该结果为制备高增强效率的探针针尖, 及其在高空间分辨率和高检测灵敏度喇曼光谱仪中的实用化提供了参考依据.
针尖增强喇曼散射 增强因子 时域有限差分法 圆锥形针尖 电磁场仿真 Tip-enhanced Raman scattering Enhancement factor Finite difference time domain Conical probe Electromagnetic simulation 光子学报
2017, 46(10): 1029003
利用CST微波工作室软件对新一代Z箍缩驱动装置中变阻抗传输线部分进行了三维电磁场仿真，建立了同轴型指数线模型，在外导体内半径保持100 mm不变、输入端特性阻抗0.203 Ω、输出端特性阻抗2.16 Ω、输入角频率14×106 rad/s的半正弦脉冲TEM波的情况下，发现传输过程中会产生少量非TEM模，线的尺寸变化越剧烈,产生的非TEM模能量越多。在传输线足够长的情况下，电磁场仿真得到的电压传输效率与电路仿真结果相差不到1%，因此可以用电路仿真结果代替电磁场仿真。
指数线 变阻抗传输线 电磁场仿真 TEM模 Z箍缩 exponential line nonuniform transmission line electromagnetic fields simulation TEM mode Z-pinch 强激光与粒子束
2014, 26(4): 045019
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 应用光学国家重点实验室， 吉林 长春 130033
在点衍射干涉仪中小孔掩模的主要作用是通过衍射产生接近理想的球面波用于干涉测量，其直径、圆度及三维形貌对测量精度有决定性影响。介绍了小孔掩模的结构与作用原理，对小孔衍射电磁场仿真技术进行了分类比较。对国内外现有小孔掩模加工技术的发展进行了归纳总结，阐述了聚焦离子束刻蚀、电子束曝光等加工技术的加工原理、加工精度及技术特点，指出了掩模对准精度对测量重复性的影响。分析了各种检测方法及存在的主要技术问题，并对小孔三维形貌的测量技术进行了展望。
光学器件 小孔掩模 电磁场仿真 波像差 激光与光电子学进展
2013, 50(3): 030004
1 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室, 上海 201800
2 中国科学院研究生院, 北京 100049
极紫外（EUV）投影光刻掩模在斜入射光照明条件下，掩模成像图形位置和成像图形特征尺寸（CD）都将随入射光方向变化，即存在掩模阴影效应。基于一个EUV掩模衍射简化模型实现了掩模阴影效应的理论分析和补偿，得到了掩模（物方）最佳焦面位置和掩模图形尺寸校正量的计算公式。掩模（物方）焦面位置位于多层膜等效面上减小了图形位置偏移；基于理论公式对掩模图形尺寸进行校正，以目标CD为22 nm的线条图形为例，入射光方向变化时成像图形尺寸偏差小于0.3 nm，但当目标CD继续减小时理论公式误差增大，需进一步考虑掩模斜入射时整个成像光瞳内的能量损失和补偿。
光学制造 极紫外投影光刻 掩模 阴影效应 严格电磁场仿真
1 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室, 上海 201800
2 中国科学院研究生院, 北京 100049
采用一个极紫外投影光刻掩模衍射简化模型实现了三维接触孔掩模衍射场的快速仿真计算。基于该模型，得到了接触孔掩模衍射场分布的解析表达式，并对光刻成像时的图形位置偏移现象进行了解释和分析。简化模型中，掩模包括吸收层和多层膜两部分结构，吸收层的透射利用薄掩模修正模型进行计算，多层膜的反射近似为镜面反射。以周期44 nm、特征尺寸分别为16 nm和22 nm的方形接触孔为例，入射光方向发生变化时，该简化模型与严格仿真相比，图形特征尺寸误差小于0.4 nm，计算速度提高了近100倍。此外，考虑到多层膜镜面位置对图形位置偏移量的影响，得到了图形位置偏移量的计算公式，其计算结果也与严格仿真相一致。
光栅衍射 极紫外投影光刻 薄掩模模型 严格电磁场仿真
西南科技大学信息工程学院， 四川 绵阳 621010
宽频太赫兹技术在**、通信等领域有着广阔的应用前景，光电导天线是产生宽频太 赫兹波的重要手段。基于HFSS电磁仿真软件，对蝴蝶型和双极型两种电极结构的小孔径光电导天线进行了电 磁场仿真。通过对比不同参数情况下这两种光电导天线的增益，找到了一种具有较高发射效率的小孔径光电导天线， 并分析了电极形状和电极间隙对光电导天线发射效率的影响。仿真结果表明，相同尺寸的蝴蝶型天线比双极型 偶极子天线具有更高的增益。
增益 影响 电磁场仿真 太赫兹 小孔径光电导天线 gain influence electromagnetic simulation THz small-aperture photoconductive antenna
